也算是专业相关，我想说：

真的很好，很棒，我很喜欢。

但是这种大科学装置般的东西，审批、设计、建造、调试搞下来，没个5-10年不可能吧？

EUV没有Zeiss就没有卵用。

不说镜头了。

EUV掩膜底片都造不了。

而且EUV这么曲折的技术路线，可能一辈子也回不了本，哪有浸没式香。

持保留态度，因为看到的都是自媒体的集体巨嗨，还没看到过业内权威人士出来走两步、可能与否简单表示几句。

退一步，就算完全可行，要具备生产能力至少也是几年后的事了。

如果中途某两个环节出现问题、证明走不通又怎么办。

按手机平均每两年迭代的速度，两年后的华为拿什么芯片与苹果三星等抗衡？要知道iphone15今年用的就是4纳3纳了，两年后的只会更先进，两年的时间很快，说实话为华为捏把汗。

如果华为下一代研发出了真正的全面屏，那么击败苹果还有胜算，否则真的悬、芯片技术隔着代的悬。

以上不是泼冷水，而是无情的现实

当然如果国产ssmb-euv真的能投产那自然是再好不过，苏联直呼内行。

不知道是不是媒体炒作，这段时间到处都是很玄的科学原理来造光刻机的理论，但是基础科学是很少有弯道超车的，奇迹不一定是真的会来。还是要踏踏实实地搞研究，希望不是自嗨。等两年国产3nm cpu下线，国产手机都用上了国产cpu了，我就信了。

从科学研究的角度看，很NB，跳出原有思维，进行科技攻关，值得鼓励。

从商业化的角度看，不太看好，光刻机只是芯片制造领域中的一个设备或环节，假设造出来，还要整合到整个生产体系中，这种异类型号的设备在整合中必然出现各种各样的问题，说不定还要整个流程和设备再造，另外巨大化的另外一个问题就是清洁度，芯片制造领域中的清洁度和良品率都是生命线，两者极度相互影响。

结论：有余钱的时候，完全值得研究，但是短期内没啥实用价值。

我只能用“思路清奇”来评价。

让我想起冷战时期的一件事

美苏争霸期间，都在研发末端防空导弹防止对方的弹道弹道袭击

美国技术比较先进吧，研发出了爱国者，弹头上多个微小发动机控制方位，精确防空，就是弹头打弹头

苏联技术当时做不到，怎么办呢？很简单，在防空导弹上装核弹头

当对方弹道导弹来了，一枚搭载核弹的防空导弹升空，到了差不多高度开炸，用范围伤害替代精确伤害

想来也光刻机和光刻厂之间的关系了

网民们啥时候才能有自己独立的思考呢？

高赞里有几个是在真正讨论手撕面包技术的。

再看看股市大家懂得都懂。

我只是根据以往经验对清华干成这个事情深表怀疑，莫非这几年清华出国留学生少了，干活还是卷起来了吗

让子弹飞一会儿吧，不要太乐观，也不要太消极，毕竟新技术还没有真正的工程实践呢，谁也不知道会不会遇到什么问题

大开大合确实是大国风范了

简单来说就是下一代的光刻机技术，优点是下一代，所以潜力，成本什么的都比asml的强。

缺点也是下一代，所以技术成熟度不够还需要时间才能搞出来成品乃至于产业化

体会到了一种绝望~~

按B站何教授的说法，这个方案是斯坦福大学的赵午教授提出来的，赵午教授是新竹清华大学的本科毕业的，说是清华也没啥大毛病。

由大家更熟悉的那个清华出人。

再由德国联邦物理技术研究院出设备场地做了实验论证。

我也不懂这些。但是个人觉得合作还是很重要的。这个世界上想要做事情还是能合作是最好的。

没有什么是一蹴而就的，这个东西是2010年提出的，2015年开始做到现在都是一个发展的过程。

ASML就相当于一个精巧的暖手宝，中国这个相当于从发电厂接了一根暖气管子过来，用冷却水循环取暖。

所以发电（电子对撞）是主业，光刻只是副业，甚至可能是废物利用。。。

SSMB-EUV团队：这玩意儿好是好，但是有两个致命缺陷，一是耗电量大，二是特别占地方

国网/南网：？

各省市自治区直辖市：？？

怎么看？这个东西都已经造出来了，但不是一些人吹嘘的那样？更多是用于基础科学研究的

没有可行性。

对反射组件的要求太高了。

光路长得离谱不说。

你们猜没有被反射组件反射的能量是以什么形式存在的？

而且成本如何，还得工程上再看，理论上来讲恐怕会很高。

你有光棱塔，我用磁暴圈。

这还有一个成本的问题。现在5nm芯片的成本都是以前的好几倍（好像是快2000），已经没有上涨的空间，再高都赶上手机了。

还有光台积电就有一百多台光刻机，不知道有多少EUV。但我感觉这些加速器供不上这么多光刻机

个人对现在所谓的“光刻厂”不是非常乐观。

光刻厂并不是只有光刻机，还有涂胶、刻蚀、扩散、清洗、检测等等设备，而为了摊平光源及其配到光刻设备的巨大建设成本，一个“光刻厂”的生产速度至少需要等同于十几、甚至几十个 ASML 光刻机，这意味着需要为之配套的其他设备也是极海量的

在没有确定的订单来源的前提下，造这种东西和往海里倒钱没啥区别

行业相关，晶圆厂里的自动化设备也贵的吓人，而所谓“光刻厂”必然是高度自动化的，所以估计造价会比台积电的新竹厂还高

一切都是自媒体在鼓噪而已。

SSMB只是光源的一个研究方向，还远没达到可以工程化应用的阶段，从科学原理实现到工程应用是一个长时间的过程。

光刻机里也不是只有光源这一个难点，光那个高精度移动平台就做不出来，28nm的光源不受限上海微电子也都开发的很艰难，更何况7nm精度的移动平台。

其他还有能用于7nm以下的光刻胶、各种电子级的清洗液、蚀刻液、化学气体，这些耗材都是难点没能国产化。

所以，事情远没那么简单。

emm，就算用同步辐射光源替换了等离子光源，那也只是解决了EUV光源问题啊。后续围绕着这个光源打造光刻机的难度看上去比自研EUV光刻机更甚，毕竟连个可参考借鉴的方案都没了……

2021年清华大学唐传祥团队与国外合作团队在《自然》上发表了题为《稳态微聚束原理的实验演示》的论文，提出SSMB-EUV方案。就是说2021年才完成理论验证，实验装置都还没建好，要实用化客观估计还要好几年。最近铺天盖地的弯道超车就是被庄家利用来带节奏割韭菜的。

妥妥的民智分类器。

坐等评论区看结果！

老新闻了，2021年人家就发论文了，

现在沸腾个什么我没看懂。

回答里说的换个路径也把我搞懵逼了，

现成的光刻机给你放到这里你都整不明白，

你怎么自己重新设计一套其他路径的光刻机就轻轻松松？

作业答案给你了看不懂，然后你说我自己写就能写满分？

而且什么深紫外啥的光源，你去web of science上搜论文，

你就会发现不止一篇论文告诉你怎么产生这些光源，这不是什么稀罕事啊，

我没懂沸腾的点在哪里？

当看到各路自媒体集体狂欢，就感觉这东西可能没那么乐观

我不是专业的 那什么论文我也看不懂 我就知道5年前的华为 以及4年前中国全半导体产线和大学被制裁的时候 你们这些拿着论文夸夸其谈的“专业人士”也是这么唱衰的。吹也好，唱衰也好，历史的车轮不会以你个人的意志而转移。更不会因为你们说搞不出来，就停止研发了。有些“专业人士”总喜欢对过程评头论足，就不能耐心一点，等等结果？

从华为的m60横空出世来看，多数人多数时候的回答都只是打胡乱说而已，包括所谓的从业者。