对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

一切都是自媒体在鼓噪而已。

SSMB只是光源的一个研究方向，还远没达到可以工程化应用的阶段，从科学原理实现到工程应用是一个长时间的过程。

光刻机里也不是只有光源这一个难点，光那个高精度移动平台就做不出来，28nm的光源不受限上海微电子也都开发的很艰难，更何况7nm精度的移动平台。

其他还有能用于7nm以下的光刻胶、各种电子级的清洗液、蚀刻液、化学气体，这些耗材都是难点没能国产化。

所以，事情远没那么简单。