我国光刻机发展怎么样了？
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以下内容来源于专家原汁原味的交流上海微电子推出了28nm的demo。
1月份通过科技部验证，2月份发往客户，具体用于多少nm的产线不清楚。
去年从知情人士得知28nm的demo需要24年年底才能推出，为什么提前这么早推出？先前科技部验证失败了几次，问题主要出在工件台、传输的稳定性，光的均匀，以及其他零部件的稳定性，运行起来容易故障报错。
在去年与相应供应商解决了零部件问题，公司加强研发的强度加班三班倒，将核心点突破后，demo得以提前推出。
公司对技术人员的激励有变化吗？从去年下半年开始，薪资微调，开始发放加班费，提供后勤保障，奖金增发百分之二三十，加起来薪资一共有40-50%的调整。
目前公司也没有强制要求，工作的弹性已比较灵活。
公司有新专家加入吗？没有，近两年没有新人加入，发往客户的28nm的demo，它的良率和光的精准度如何？良率无法计算，这款是样机，无法完全用于产线的量产。
之所以发往中芯国际而不是ICRD，给ICRD发的是子系统，不是整机。
中芯在该项目的工艺较强，加之华为在深圳，国家统筹这三个公司做这方面的事。
只能等跑出小批量后才能看到良率。
一台设备的产能和良率数据最早需要一年半左右才能得到。
光刻机在实验室时，只是将图片曝出来，到产线上，但和实际使用情况差距比较大。
科技部验收的标准是什么？很简单。
在晶圆上把片子曝出来，尺寸到位，图片能出来就可以。
国家的验收标准和实际工厂的使用不同。
比如ASML，它的光刻机研发出来后发往台积电，大概需要两年时间才能用于完全量产这期间是需要和foundry下一步合作研发。
去年出了几台90nm？分别出给谁？长江存储、中芯国际、上海积塔。
90nm到现在一共出了三四台，今年预计要出三四台，订单已有4台。
订单分别是给长江存储(复购)、燕东微电子、合肥长鑫、青岛芯恩90nm一台多少钱？一年产能多少？有扩产的计划吗？一台9000多万，一年产能有六七台，一年产值差不多6个亿。
扩产目前没有计划，如果订单量提高，可以通过三班的方式扩产，大概能扩产一半的产能。
长江存储的光刻机先前出现问题，运行四小时后需要重新调对准，问题现在解决了吗？在什么时候，如何解决的？解决了。
由分系统的技术人员解决，具体方法不清楚。
28nm专项是公司主导还是有其他玩家参与，领导是谁？背后是国资委。
28nm专项组中没有华为的人。
但下一代光刻机EUV光源方面有上海微电子和华为。
深圳国资委和上海国资委在去年11月成立了新公司，其中40%是上海微电子的人，60%是华为的人。
华为自己做的光刻机和专项是两码事吗是的。
华为分三块在做。
一方面是下一代EUV光源的研发，另一方面是和Fab厂中芯国际、上海微电子把28nm调出来；第三块是从上海微电子挖来了许多分系统的项目经理，负责买尼康的设备进行调试。
买二手的尼康，大概有5台。
不限制运输，为什么还要买尼康的二手？买二手设备是从挖去华为的人得到的消息，主要负责二手光刻机的精度调试，但具体原因不详。
华为那儿的尼康是最新的35型号吗？用最新款，将来调试后就可以做到14nm的芯片。
通过浸没式把波长从一百九十几变成154的波长，缩短波长，原理和ASML的2000I差不多，通过双控电台达到多重曝光的技术。
买来的机器本来是干式的，要加浸没系统，变成湿式的、浸没式的。
然后再改工件台。
从前是单工电台，现在是双工件台。
光刻机下每一个分系统的简介？激光器、光源系统、掩膜台、调教调频检测等很多部分组成。
激光器通过光源系统打出来，通过物镜系统，净化光的走线、波长，随后进入曝光系统，把光通过镜头达到工件台上。
光刻机各分系统的成本结构？目前许多零部件还是定制化，因为量不高价格较贵。
90nm的光刻机利润只有20%不到。
曝光系统成本较贵，15%，激光器是光源系统中的一部分，大概占3-5%，工件台占12%左右，物镜大概10%，光源系统由科益虹源、福科技在做，科益虹源做整个光源系统的系统集成，其中的光源器由福科技做。
物镜供应商是国望光学。
奥光电是光源的一个激光器，但它是物镜系统中非核心的东西，整个物镜系统由国望光学组装。
因为国望光学拿了02专项的钱，福晶科技没有参与到项目中，拿到项目资金的公司不能上市。
比如国科精密做曝光光源系统、华卓精科双工件台、启尔电机做浸没系统、科益虹源做光源系统、国望光学做物镜系统，以及上海微电子。
3月10日上市的茂来光学做镜片，物镜和光源系统中很多系统都用到镜片，一台光刻机中有20个。
光刻机中的镜头采购海外的蔡司占30%，70%是茂来的，茂来份额很大。
蔡司和茂来的产品基本没什么差别。
公司的供应链基本是同一个供应链，原先的核心零部件基本是采购国外的，但因断供问题导致产品交付推迟。
光刻机的零部件国产化率是多少？28nm研发从产品立项开始，所有的重要零部件都已实现国产化。
90nm的现在国产化率已达到70-80%。
剩下的20%是板卡等内容，板卡不仅限于光刻机在使用，国内有很多代理商代理，无法全部限制。
板卡即控制芯片加一些电路，它不是核心的东西。
所有有限制的零部件和未来可能限制的都已国产化，非核心的东西无法做到100%国产化。
通过众多代理商可以进行采购，哪怕国产替代也很快可以研发实现28nm做出来后，只要用户验证通过能进行量产就相当于完成项目了？是的，28nm只要能把芯片做出来才算完成项目，14nm或者中兴那边7nm的制程工艺，即通过多重曝光能做到7nm工艺的情况下，7nm及更高工艺的芯片就不会受到限制。
公司的产品对标ASML的NXT2000I。
华为计划在25年要扩月产30-35万片的12寸产能吗这个传言是达不到的，除非华为下一步继续弄到光刻机。
通过尼康的东西，可以做到14nm，但7nm的芯片做不了。
华为会从公司采购光刻机吗？28nm的能再卖给华为吗？卖不了，28nm的光刻机目前还没能完全用到产线，采购也没有用。
只有把兼容性和一些不确定的因素都解决以后，华为才会去采购。
如果华为要做7nm芯片，是买不到光刻机的。
2000I的光刻机被美国限制不允许出口到中国。
在去年早期就已有消息，28nm的干式和单工件台可以卖给国内，但28nm的双工件材料不允许卖给中国大陆。
如果采购索尼和尼康的设备，最多能用到多少nm？仍然是28nm，再高一些的16、7nm都做不了，如果像华为，把其改成浸没式，有可能可以做。
华为的28nm非美产线没有拉通，如果美国也限制尼康，那么28nm的也会做不了，但美国不打算限制28nm的光刻机。
美国目前对ASML的限制就停留在单工件台，28nm以上的东西美国和ASML都不会限制。
华为的28nm非美产线，如果政策面不动何时能拉通？华为的那5台在去年就已经在实验室验证通过了，差不多今年就能上产线，如果5台尼康改造的设备能在产线使用，那么14nm的芯片就能做出来，也就是非美产线就可以拉通，但7nm短期还造不出来。
但如果中芯深圳的14nm/7nm产线在一到两年后跑通，就意味着14nm实现了非美的自主可控，到时候美国对我国7nm及以上制程的芯片完全没有任何可卡脖子的地方。
光刻机的进展这么快很不可思议，是为什么呢？公司的员工也觉得很不可思议，去年上半年产品总监开会时，立项延期到什么时候都还不确定，因为对产品的完成大家很没信心。
28nm产品突然发布，公司很多人都不知道，保密做的非常到位那发展快究竟是突破了哪些环节？主要是传输的稳定器、运动台的加速度、物镜系统中光的稳定性，光照到片子上时，一直很难呈现出完整的图案，以及产品兼容性，原先可能跑几个小时就会故障，无法通过可靠性检验。
这么快的实现可能是产品与产品之间的公差正好被项目人员调到了。
目前公司准备开始组装第二台，第一台改了很多东西，包括几大核心零部件也改动很多。
第一台是摸着石头过河，但准备通过第二台找真正的原因。
目前很难去评判这台28nm光刻机性能如何，对吗？是的，测试在公司只要通过一个晶圆片，跑出图形就可以，但是到客户现场去跑客户的产品，长久使用和短期做了一个东西是完全不同的，90nm目前的良率是多少，和ASML对标的水平大概是多少？根据客户反馈的数据，和ASML良率和产能要下降10-15%左右，产量的数据目前还没有。
听说有的买来公司的机器回去后不使用，放一旁吃灰是什么情况？那是17年的事情，17、18年卖出的设备存在各种问题，后来又拉回公司，最后真正量产是在2021年。
28nm的可以转14和7nm的可以用来做存储吗？还是只能做逻辑芯片？目前还没做过，理论上是可以的，实际怎么样不知道，因为机器还没组装好。
华为究竟有几家子公司，哪些公司是华为的？不清楚，许多公司就是在某个园区里租了个小房子成立的，从组织架构上看和华为没有任何关系从投资关系上看最后的大股东就是国资委，看不到华为的任何信息。
EUV的光源是哪家厂商在做？由华为做下一代的研发，华为承包了一个分系统，和上海微电子两家来做许多公司都在扩产了，深圳发布了信息，做封装或晶圆方面，中芯国际也做了投资。
华为在上海青浦也建了新的半导体工厂，上海市政府也投资了很多钱。
关注船长跟踪更多行业资讯，点击享船长福利，salute编辑于 2023-03-17 14:27・IP 属地四川真诚赞赏，手留余香赞赏还没有人赞赏，快来当第一个赞赏的人吧！赞同 46185 条评论分享收藏喜欢收起。
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忒休斯船长 - 450 个点赞 👍被审核的答案
去辣婆婆吃水煮鱼。
不一会儿拍黄瓜、炸花生、拌豆腐丝、小炒肉全端上来了，唯独水煮鱼催了30分钟也没影。
最后服务员扭扭捏捏把水煮鱼也端上来了，里面豆芽、土豆片、油豆腐、木耳、剁椒一应俱全，但是没有鱼。
这就是“02专项”的现状：其他子项目全都“交付”了，唯独28nm光刻机没有。
编辑于 2022-09-22 12:31・IP 属地北京赞同 45040 条评论分享收藏喜欢。
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金大毛 - 310 个点赞 👍被审核的答案
之前那些说中国要是能造出来光刻机，就把自己的头拧下来的那些团建分子，你们可以把头送过来了，我要筑京观。
发布于 2023-09-01 09:39・IP 属地河北真诚赞赏，手留余香赞赏还没有人赞赏，快来当第一个赞赏的人吧！赞同 31023 条评论分享收藏喜欢。
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合唱团 - 172 个点赞 👍被审核的答案
能够制造5nm芯片的EUV光刻机，其三大核心技术均已被我国突破，高端制程的芯片制造已彻底为我国打开了大门。
自美国发动贸易战以来，芯片制裁是美国为数极少的可以恶心到我们的领域，不知道多少专家翻来覆去的说光刻机乃全球人类智慧的结晶，是来自30多个国家的5000多家供应商合力而成，凭中国一国之力根本不可能搞定这东西。
但我们在短短几年之内实现了芯片制造的国产化。
从90nm光刻机开始，我们连续突破了65nm，55nm，28nm等多个技术等级的光刻机，目前已实现28nm的光刻机量产。
28nm为芯片主流成熟制程，可满足全球芯片需求的70%以上。
按理说这也够了，成功研发出28nm纯国产光刻机后，单纯从经济上来说，美国的芯片制裁就已经失败了。
但芯片这东西被美国打成了政治牌，不仅代表经济，还代表美国无可匹敌的技术实力和号召能力。
所以我们不能满足于28nm光刻机，既然要做就一口气做到底，借美国大打芯片牌的机会一口气打碎美国技术无敌的滤镜，并且让敢于跟随美国制裁我国的商家亏损惨重，以儆效尤。
在纯国产28nm芯片生产线正式投产的同时，上海微电子研发的DUV光刻机利用多次曝光的技术可强行生产出7nm的芯片，解决了我国高端国产芯片从无到有的问题。
但这种多次曝光技术成本太高，造出来的7nm芯片没有商业大规模量产的价值，达不到我国彻底打碎美国芯片封锁的需求。
想真正生产出纯国产的高端芯片，以一国之力匹敌全世界的技术联盟，必须突破EUV光刻机技术。
和中低端光刻机相比，EUV光刻机从原理上就完全不同，所以哪怕常规技术路线可以迅速从90nm升级到28nm，也制造不出来7nm和5nm的芯片。
想商业量产7nm、5nm和全球都正在研发中的3nm芯片，国际公认必须要有EUV光刻机，而这东西只有荷兰ASML公司可以生产，甚至ASML都有90%的零部件采购自30多个国家，自己只负责组装，能荷兰自产的只有10%。
所以ASML的技术负责人说即便把图纸给中国我们也造不出来，因为在买不到零部件的前提下，他们自己都造不出来，何况别人。
EUV光刻机共有三大核心技术，分别为EUV光源系统，高精度弧形反射镜系统、超高精度真空双工件台。
突破这三大核术底蕴，这三大核心技术其实还是有一个的。
早在2015年，中国的长春光机所就已经研发出了EUV光刻机的高精度弧形反射镜系统，多层层镀膜面形误差小于0.1nm，达到了EUV级光刻机的标准。
但这套系统有个小问题，并非所有零部件都是国产的，其中镀膜装置采购自海外。
放在外国的话，长春光机所的这项技术就已经是人类最顶尖级别的了，但当美国制裁导致镀膜装置被禁售后就全废了。
我们知道如何制造人类最顶级的高精度弧形反射镜系统，但缺少镀膜装置这个零部件，导致整个系统都无法制造。
2021年7月，中科院下属国企单位北京中科科美成功研发出镀膜精度控制在0.1nm以内的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置，满足了长春光机所对零部件的技术要求。
中科科美研发的镀膜装置送到长春光机所后，我国立刻制造出了EUV级光刻机级别的高精度弧形反射镜系统。
这次纯国产，每一个零部件都是国产。
至此EUV光刻机的三大核心技术被我国突破了一个，还剩两个。
2022年，哈工大传来喜讯，该大学科研组成功研发出真空用超高精度激光干涉仪，位移分辨力5pm，位移测量标准差达到30pm，关键指标与ASML最高水平接近，满足EUV真空双工件台对高速超精密激光干涉仪的精度要求。
双工件台造起来不难，但双工件台的工作精度由激光干涉仪决定。
我国突破了真空用超高精度激光干涉仪的关键技术，就可以轻松制造超高精度的真空双工件台。
凭此贡献，哈工大于2022年荣获中国光学领域最高荣誉金隧奖，并在金奖名单里位列第一。
为什么美国要把哈工大列入制裁实体清单，拼命遏制这个学校的发展，现在你应该知道了。
美国的制裁清单都是精挑细选的，从来都不会冤枉任何一个好人，不够格的人是不配上清单的。
因为哈工大的贡献，EUV级光刻机的三大核心技术的第二项，被我国成功突破。
还剩下的那最后一项是EUV光源系统，也是核心的核心。
光刻机光刻机，听名字你就知道光源才是最核心的东西，而EUV光源则是EUV光刻机的心脏部件。
这玩意全球只有美国会造，多年来都明文列入瓦森纳协定，对中国严格禁售。
没有这东西，哪怕其他光刻机部件中国全都造出来了也没用。
2022年下半年，有小道消息说中国已成功研发出EUV级光源，但并没有官方信息证实。
2023年4月13日，长春光机所官网公布消息，中国科学院院士、中国科学院前院长白春礼在长春光机所参观了EUV光源系统。
这是中国首次官方证实了我国已成功研发出EUV光源系统。
而且在官网的介绍里，明确写着白春礼参观的是EUV光源样机，也就是说长春光机所已经度过了原理样机阶段，连工程样机都已经制造出来了。
所谓工程样机，指的是面向商用研制的1:1样机，在通过验收后就可以直接量产，交付客户使用。
按中国的“潜规则”，工程样机没有经过严格测试认定成功之前是不可能邀请领导来参观的，敢让领导来参观并在官网上对外公布，那就说明该工程样机不仅制造成功且已经通过了测试。
倒算时间，长春光机所在实验室里成功研发出EUV光源那就是去年底，小道消息没有错，只是官网通告要把方方面面都测试到万无一失才可以，所以又等了半年才公布。
至此，中国成功突破了EUV光刻机的所有关键技术，跨过了高端光刻机和中端光刻机的门槛，纯国产7nm和5nm甚至3nm芯片生产线的大门已被中国彻底打开。
对此消息，外媒的评价是“炸裂式技术突破”。
按光刻机行业的正常进度，光源样机造出后只要一年时间就可以制造出用于芯片制造的光刻机，然后各种测试、磨合和商业化规模应用大概要花费2年的时间。
换句话说，2024年中国将成功制造出纯国产的EUV级光刻机整机，2026年之前将彻底落地商业化规模生产，如果各企业及监管部门通力协作加班加点，这个时间还可以提前。
中国原计划是2030年之前突破EUV光刻机，按目前的进度看绝对可以大大提前，将至少提前4年，甚至5年。
随着中国对EUV光刻机研发进度的不断增长，ASML对中国的态度也在不断变化。
美国刚启动对华制裁时，ASML的一个工程师网上发文说就算给中国人图纸他们也造不出光刻机，甚至还说：先别提把极紫外光刻机EUV给造出来，就是把EUV给用好都是一件无比复杂的事情，台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。
他们对光刻机的使用技巧达到了某种让人钦佩的高度。
意思很明确，他认为中国人别说造出EUV光刻机，就连用好EUV光刻机都够呛。
2021年7月，中国造出了纯国产的高精度弧形反射镜系统。
2022年1月，ASML总裁温克宁在公开场合表示：中国目前不太可能独立掌握顶级光刻技术，因为阿斯麦依赖于"不懈的创新"，并整合了只有非中国供应商才能获得的组件。
但同时他也说：中国并非永远无法掌握顶级光刻技术，因为我们所知道的物理定律，中国人也知道，他们一定会努力去掌握这项技术。
永远不要说得太绝对。
他们肯定在尝试。
”简单的说，总裁先生认为中国的研发有点威胁，需要略加警惕，但威胁不大2022年，哈工大成功研发真空用超高精度激光干涉仪，并公开获奖。
2023年1月，ASML总裁温克宁在公开场合表示：美国带头的针对中国半导体行业的制裁措施，不仅不会给中国造成太大伤害，反而会倒逼中国人在高端芯片领域研究出自己的技术。
“中国的物理定律和全世界的都一样，中国没理由造不出光刻机”简单的说，总裁先生改口了，认为中国已具备重大威胁，希望美国立即放松制裁，采用倾销战术裁来遏制中国光刻机的研发进度。
2023年4月13日，长春光机所官网宣布中国已成功研发EUV光源的工程样机。
温可宁看了这个消息之后直接炸毛了。
2023年4月17日，荷兰ASML总裁温可宁在公开场合发言，炮轰中国光刻机，称：“中国自主研发光刻机，自主建设芯片产业链，将会破坏全球芯片产业链。
”总裁先生您这是，在撒泼打滚？别那么着急在地上滚来滚去啊，这才哪到哪啊，等光刻机和芯片的价格被我们打成一折的时候再撒泼打滚也不迟，这就是第二个盾构机，一旦中国全部研发成功必定被打成白菜价，把海外的老牌巨头全部荡空。
破坏全球芯片产业链的不是中国，而是美国，是美国强迫我们自主研发的，荷兰方面因此产生的一切损失当然应该由美方负责。
可能台积电的工程师只是能把EUV光刻机用好就能把ASML震惊，但我们不是台积电，我们喜欢的不是对着说明书用，而是直接研发制造。
为什么去年的时候还感觉中国离高端EUV光刻机差的很远，今年突然这就全部突破了，一夜之间变化这么大？以前有个题目，问的是一个池塘中的睡莲，已知它每天面积增长一倍，30天能够长满全池，那么铺满一半的时候是第多少天？答案是29天，足足长了29天才铺满池塘的一半。
如果你是一个只看表面结果的人，第29天视察池塘的时候会认为睡莲离长满全池还差的很远。
但当你第二天过来的时候，会震惊地发现一夜之间整个池塘居然都长满了睡莲。
然后，就到了睡莲开花的时候了。
在这里恭喜长春光机所、哈工大科研团队和中科科美，你们三家为我们中国人率先突破了EUV光刻机的三大核心卡脖技术，在这场举国进行的芯片科技竞速中拔得头筹，立下头功。
国家给你们发任何奖项，我都双手支持。
作者：远方青木（ID：YFqingmu )发布于 2023-04-29 00:01・IP 属地湖北赞同 17221 条评论分享收藏喜欢收起。
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远方青木 - 111 个点赞 👍被审核的答案
业内人士，不能透露太多机密信息，但可以说点相关的。
这两年大家疯狂加班，老大也拍了胸脯立下军令状。
老大签字画押，签了生死状的。
年底国产光刻机不出结果，提头来见。
年底会公布振奋人心的消息，足以让美股彻底崩溃。
北约撑不了多久了，配合北边老大哥，钢铁洪流会直接平推到伦敦。
明年第二季度之前实现量产，会与鸿蒙OS和5G来一波大的，这一揽子解决方案的组合拳，可以预计，苹果三年内就会破产重组。
明年量产后，美国的Windows和苹果会彻底在三年内被淘汰，美国也将彻底崩溃。
让我们拭目以待，歼灭一切来犯之敌。
大家一鼓作气，打倒美帝野心狼，把盎撒匪帮彻底从地球上抹去。
且听龙吟。
你好，达瓦里希。
乌拉！编辑于 2023-07-19 16:02・IP 属地山东赞同 11143 条评论分享收藏喜欢。
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马飞飞 - 109 个点赞 👍被审核的答案
发展的应该很不错，你瞧把娃都急成啥样了。
编辑于 2023-09-16 01:53・IP 属地陕西赞同 10917 条评论分享收藏喜欢收起。
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发烧的茄子 - 76 个点赞 👍被审核的答案
发展到明年1季度很多人要死，因为都准备提头来见了，不过历史上有句话叫“数学解决不了的问题，KXSHZY可以解决”，所以相信明年1季度一定举国欢庆发布于 2023-07-04 13:52・IP 属地浙江赞同 7616 条评论分享收藏喜欢。
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为什么又要改名字 - 76 个点赞 👍被审核的答案
这题我一直关注。
mate60的事代表知乎各种“提头来见”的匿名者业内人士没有被打脸，他们说的都是真事儿。
知乎匿名爆料的可信度还是有两下子的。
都注意一下各种讽刺挖苦“提头来见”的账号，看看他们是否已经换号来见。
发布于 2023-08-31 15:11・IP 属地天津赞同 7610 条评论分享收藏喜欢。
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安好心 - 0 个点赞 👍被审核的答案
提到Ssmb euv的，请好好去翻阅一下他们发在知网上的论文，不要不看论文做二道消息贩子，ssmb是非常前沿的技术，目前只实现了实验室验证，大装置还在建，离正式投产还有相当长的时间，商业化应该不低于2027年，已经是惊人的速度了，乐观可以，瞎说瞎写说领先asml，人家asml都商用化了，我们实际还在追赶，这么吹是搞大跃进么？编辑于 2023-09-15 02:32・IP 属地广东赞同1 条评论分享收藏喜欢。
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惊鸿婉游龙 - 3046 个点赞 👍
友商没降价，就是发展得不怎么样。
LG真降价了，说明京东方是真有东西。
三星成了消防先进单位，说明长存长鑫真有东西。
ASML台积电没降价，说明国产光刻机就是垃圾。
这种问题你不需要懂，友商懂就行了。
发布于 2022-11-24 10:04・IP 属地黑龙江赞同 3046158 条评论分享收藏喜欢。
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LSZH - 2978 个点赞 👍
求求了，你们去宣传宣传switch，ps5是工业明珠吧，求求了求求了！发布于 2023-09-01 23:08・IP 属地辽宁赞同 2978202 条评论分享收藏喜欢。
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捅主任 - 2171 个点赞 👍
你还不如问问：“中国的人才怎么了”？荷兰光刻机巨头，如果没有林本坚技术的加持，早就倒闭了，可见不是中国人不行，而是中国没有把顶级人才留住，更没有利用好顶级人才。
祖籍潮汕的台湾省人，林本坚每年我们给美国输送大批的优秀毕业生、高端人才，光是清华大学给美国硅谷输送的留学生就有20000多人，其他大学呢，留美专家学者呢，至少十几万理工科科研人员在给美国做贡献。
美国感谢过中国吗？没有。
2万个1000万是2000亿人民币，大概是庚子赔款的多少倍？我不会算，大家帮我计算一下吧！中国的大学生培养成本，大概平均支出是1比10～300的关系，自己支付1元，财政支付10元～300元，中国纳税人大力投入培养人才，培养好了，让美国大力收割走。
谁是冤大头？比如清华，2020年政府财政拨款一年317亿，当年计划招收3000多位学生，人均学费10000/年，在校生学费年收入1亿上下。
政府拨款是学生支付比例的约300倍。
啥？培养大学生不能算入研究实验经费？1，大学是个整体，它因学生而存在。
2，大学以研究探索能力而分高下。
3，教授是探索带头人，带头是要花钱的。
4，承认自己是个精致的利己主义者，有这么难吗？各种理由，还狡辩个啥。
每位清华学生每年享受财政约300万补助，三年就享受了约1000万财政拨款。
如果他转身就去为西方工作，单单中国财政就净亏损1000万。
所以任正非才告诫何庭波，他说“你要找清华北大，如果学生跑了，你负得起责吗”？2019年5.3万亿教育拨款，谁来结个账？中国纳税人是肥猪吗？培养这些不为中国人民效力的人才有个X用，一堆精致的利己主义者，还不如通通送去建筑工地搬砖，先劳其筋骨，给他们换换思想。
更不用说，某些部门把英语教育从娃娃抓起了，你英语教育搞再好，能比得过五眼联盟吗？君不见这几年的低龄留学生越来越多吗。
你从娃娃抓起，别人直接连娃娃都给你抓走。
先不谈英语的好坏，就说英语渗透到中国考评筛选的方方面面，逼迫我们浪费大量金钱精力学习英语，从上到下重视到无以复加。
前几天我还提了字母语言的“失读症”问题，黄种人发病率是10%～20%，也就说有10%以上的中国学生天生就学不了英语，也就是英语老师说的“不努力的差生”。
这些“差生”天生就被剥夺了上好大学的权利，无论他多么努力，高考的最好结果，也不过是个二本生而已。
可见，思想上的塌陷是决定性的，文化自信针对的就是这个事情。
我一直认为，病态的中国英语教育，是英美收割阴谋的重要基础。
这应该是中国翻译家死绝了吧！一一一一一一一一一一一一一一一一一任正非接受采访时说了一段非常扎心的话：我们在国外采办时，很多高新科技产品都是我们中国人在外国造的！应该让中国的鸡回中国下蛋！采访视频记得杨振宁吗？老爷子顶着骂名，赌上大半辈子荣辱，坚决反对中国建设大型对撞机，而项目建设提议来自美籍华人丘成桐。
杨振宁表示：1，大型对撞机成本太高，风险太大。
2，会大大挤压其它项目的研究经费，还不如加大力度投资半导体等紧迫的领域。
3，就算建成也是给西方科研做嫁衣，因为物理科学的前沿理论，顶级人才都不在中国。
最后11位物理学家投票，5比5，杨振宁最后一票阻止了大型对撞机。
(可见好大喜功的家伙真不少，这么明显的利弊不会计算吗？赞成的5个人，我XXXXXXXX省略一万字)杨振宁不是第一次呼吁发展半导体了，上世纪70年代就给当时的中央建议过。
作为顶尖理论物理学家，数次公开阻止“理论验证装置”，这是多么不容易。
上次阻止8321工程，即李政道提的BEPC，初期投资2.4亿，后期改造6.4亿，但他失败了，当然没听他话的都失败了，为此，中国当年下马一大堆应用科研项目，荒废一大批应用研究人员，史称“七下八上”。
这次很幸运，他阻止成功所以，中国的光刻机怎么啦？没怎么，吃里扒外太多，一时半会儿改不过来了，哪天改过来哪天就出头了。
该问题的扩展思考：(有解决方案)一一一一一一一一一一一一一一一写这么多，我批判的实际上只有3个事情。
一，英语不合理的考评筛选地位。
废除英语必考，一律选修，非必要不纳入筛选考评标准。
让学生把更多精力、资源投入到专业课上去。
同时提高语文、历史的难度，加强中国优秀思想、文明内核价值的传承发展，以构建今后中国文化产业在世界上的强势地位。
争取形成一种以中国为策源地的“东方文艺复兴”态势。
二，遏制人才流失，尤其是顶级人才流失。
流失的关键不在学生，不在待遇，而在讲台上，在教授的大脑里。
教授的思想塌方，他教出来的学生多半也思想塌方，他在讲台上大放厥词，在言行上崇洋媚外，传授着最先进的知识，散布着最落后的思想。
学生们一个一个变得精致利己，毫无家国担当，完全脱离了供养他的中国劳动群众。
高等教育要整顿的重点是教授群体，是那些在讲台上反党、反社会主义、脱离群众、崇洋媚外、歪曲历史、自视高人一等的禽兽知识分子们。
三，公立大学要实行《公共财政培养欠款协议》。
要让学生们明白，倒底是谁培养了他？为了培养他又花了多少钱？财政给钱的要追求回报，学生花钱的要清楚自身反哺责任，不能拍拍屁股就报效外国去了，没有丁点儿限制，让祖国人民当冤大头。
财政对教授群体要有必要的管控监督手段，不能让教授这个“包工头”乱搭乱建，带头违反施工图纸，把楼修国外去，给甲方留一堆豆腐渣工程。
对于我国急需的理工科人才，尤其是顶级人才这部分，必须看紧抓牢，因为科研人才的黄金期普遍都在40岁之前，年龄大了搞突破是小概率事件。
他们数量也不多，一年十万人顶天了。
但顶级人才是突破科技封锁的尖兵，是中国未来的脊梁，是国家持续强大的根本。
培养一个理工人的成本是文科人的三倍以上，所以，无论如何，使用各种手段、政策工具，留住他们是重中之重的事情。
不能放任自流、听之任之。
(当然在实际操作中，文科可以根据文化输出需求，适当放松一些)全文完编辑于 2021-06-26 15:26赞同 21711,601 条评论分享收藏喜欢收起。
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大先生 - 1923 个点赞 👍
很多人，还是没有正确理解中国工业崛起的意义。
我说的正确理解，是指从“规模”理解中国。
不能从规模上理解中国的区别，并不能真正理解中国工业化。
譬如，前几天又在知乎看到一个论述，作者是好心，想提示制造光刻机的难度。
大意还是老一套：光刻机是很多国家、很多公司合力的结果，中国一个国家自己搞是不行的。
他的结论不一定错，高端光刻机确实很难，中国能否成功肯定是不确定的。
我是半导体行业出身，当然明白这一点。
（当然了，我认为中国可以成功。
这是另一个话题）但我想说的是，即使他的结论合理，但论据和论证就明显不合理了：因为现有光刻机是很多国家搞出来的，所以中国一个国家搞不出来。
这类论证，就是我刚才说的那一类情况，没有从规模上理解中国工业化的区别。
就说光刻机这件事。
很早就有人扒过ASML的核心供应商，重要供应主要就来自七八个国家（美日德荷英法以瑞等。
其中也有个别少数来自中国的，就不算了）。
其实仔细算一下这些国家就会发现，他们的人口之和还不到中国50%，工程师可能也就中国30%多。
中国那些工业强省+北上广深，规模上都足够看成一个个国家，放到欧洲都是大国。
广东1.2亿人口，放到欧洲是压倒性的最大国家。
浙江7000万人口，和德国相当。
上海2000多万人口，抵得上三个的以色列。
北京，抵得上瑞典+瑞士再多50%，更遑论北京顶级高校和研究所云集。
所以，如果说ASML的光刻机是联合了很多国家共同努力的结果，那大可以说中国现在联合了更多的人口、更多的“国家”在努力。
中国当然不一定成功，主要是因为缺乏积累和know-how，但并不是因为规模上我们吃亏了。
我们的合作规模其实更大。
甚至，中国内部这些“国家”之间的合作，比美日欧的合作更高效。
因为中国联合起来的“国家”，处于同一市场，同一法律架构，讲同一语言，没有时差，地理相近，交通便利…… 这样的合作联合显然效率更高。
（一个02专项的人不久前曾说，从没看过全国各地这么多国企、民企、研究所上下游的人，趴在一条产线上一起干活）谈中国，很多时候就是吃亏在一个“国”字上。
人们即使知道规模有差异，但往往还是喜欢把凡是带“国”的都等量思考。
从政治法律主权上，不同国家当然是平等的。
但搞工业化搞研发搞市场，国家是完全不平等的。
就像同为平等法人，沃尔玛和小卖部在资源上是不平等的。
整个20世纪，是西方工业化国家（包括日本）影响力统治世界的时期。
但说穿去，他们的规模是多少呢？20世纪初，美欧日合计5亿人口（不算俄国）。
20世纪末，不超过10亿人口。
平均来看，整个20世纪大部分时间，全球的工业化人口就是七八亿。
这七八亿人口之间还有内耗折损（两次世界大战、冷战）。
那现在中国没有内耗、14亿工业化人口，又会怎么影响世界呢？从规模上，才能真正理解中国工业化的意义，才能理解“百年大变局”。
编辑于 2023-04-25 15:21・IP 属地广东赞同 1923307 条评论分享收藏喜欢收起。
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山有枝 - 1639 个点赞 👍
这个问题此前被团建占据，成了梗、被嘲讽。
但站在这个时间点上回望，那些被嘲笑后没有回复的“提头来见”，反而说的是真的。
甚至还提前了。
谁是真的在做事，谁是路边咧着嘴的小丑？尔曹身与名俱灭，不废江河万古流发布于 2023-08-30 09:44・IP 属地甘肃赞同 163986 条评论分享收藏喜欢。
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走之底 - 1265 个点赞 👍
ASML总裁改口录：（2021年）“给你们图纸你们也造不出”，（2022年5月）“物理定律全世界都一样，中国没理由造不出”，（2023年4月）直接跳脚了，“中国自研光刻机会破坏全球产业链！”这完全是捧杀，绝对的捧杀。
要废一个人，就使劲夸他编辑于 2023-05-07 11:13・IP 属地山东赞同 126532 条评论分享收藏喜欢。
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日子没啥意思 - 1171 个点赞 👍
又到了最喜欢的合订本环节发布于 2023-08-30 20:55・IP 属地江苏赞同 117145 条评论分享收藏喜欢收起。
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MOF - 1142 个点赞 👍
一句话：今年年底之前会有消息，还是好消息不信的话可以把我这个答案截图保存，到时候随便打脸编辑于 2023-05-12 00:34・IP 属地广西赞同 1142195 条评论分享收藏喜欢。
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须川亮 - 1069 个点赞 👍
前几年我听的最多的是，我国歼20发动机不行，新能源电车都是骗补，氢能源才是未来！然后特斯拉降价，直接降维打击！你国新能源市场药丸结果国产新能源与特斯拉干仗把日系车干死了（最新更新特斯拉公布季度销量大概44万辆，比亚迪将近55万辆）00:00/ 00:50下载播放速度画中画视频信息镜像画面循环播放[X]DeviceId:web_34979608142802E5PlayerVersion:1.0.27SessionId:c0affd8c-3e7a-4344-b82d-d104330f55cbStreamHost:vdn3.vzuu.comRes:mse mp4 h264 [email protected]:(tv bt709)Codec:avc1.640032/mp4a.40.5Frames:0/0 4/0VideoBuffered:50525 msAudioBuffered:50549 msSpeed:0.00 KB/sTotalReceive:3340.72 KBGPU:ANGLE (Google, Vulkan 1.3.0 (SwiftShader Device (Subzero) (0x0000C0DE)), SwiftShader driver)播放 (k)00:00 / 00:50倍速2.0x1.5x1.25x1.0x0.75x0.5x高清高清 720P清晰 480P画中画 (p)网页全屏 (t)全屏 (f)00:50工业上的明珠啊，那是哗哗往下掉然后就是喜闻乐见的月薪3000关我吊事，这么说吧，之前固态硬盘平均好一点的固态硬盘1 TB能卖八九百，而当国产发力后，两TB只要600作为一个等等党我是真正的吃到了实惠，我已经期待国产在显卡等产品上发力的时候了编辑于 2023-04-06 21:21・IP 属地天津真诚赞赏，手留余香赞赏还没有人赞赏，快来当第一个赞赏的人吧！赞同 106990 条评论分享收藏喜欢。
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朝歌 - 1056 个点赞 👍
有些玻璃，看上去和我们平时看到的玻璃形态、外观差不多，却是不折不扣的隐形“高富帅”，比如用于制造光刻机核心部件的“特种紫外高透玻璃”。
中国兵器成都光明研发人员突破了超低杂质控制技术、超高透过率控制技术等数项关键核心量产技术，在国内首先开发出一款拥有自主知识产权的该类型玻璃，目前已在国产先进365纳米光刻机、DMD激光直读式365nm曝光机、紫外耦合透镜等半导体领域得到应用。
在智能制造领域，光刻机是芯片制造不可缺少的设备。
其中365纳米光刻机的核心是由特种紫外高透玻璃制造的大口径超精密镜头组，普通玻璃在365纳米波段的透过率低，且在超高功率的紫外光照射下透过率会大幅度降低。
特种和紫外高透玻璃通过特殊的成分设计使之具备超强的抗紫外辐照能力，同时，为了实现光刻机镜头组的超精密成像，这种玻璃还必须同时具备超高的紫外透过率，超高的折射率一致性，以及超高的光学均匀性等光学玻璃顶尖技术要求。
发布于 2022-05-31 17:18・IP 属地重庆赞同 1056170 条评论分享收藏喜欢。
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中国兵器装备集团 - 995 个点赞 👍
上海发布9月14号消息，“14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破；全市集成电路产业规模达到2500亿元，约占全国25%，集聚重点企业超过1000家，吸引了全国40%的集成电路人才。
”其实国内90nm光刻机并不算什么新闻，早已经交付了，只不过放在中芯国际吃灰而已。
结合这次发布的消息，国产90nm光刻机应该是搬到产线上了。
国产光刻机下一个目标是实现制造28nm的DUV光刻机，如果能实现，那么距离实现70%的芯片自给率目标就不远了。
光刻机终极十问：中国有没有必要举全国之力，去造一台光刻机？21年3月初，中芯国际迎来了久违的好消息：中芯国际与荷兰光刻机公司阿斯麦（以下简称“ASML”）签下大单，订购12亿美元光刻机。
近年来，我国虽然在科技研发上取得了多项重大进步，但在芯片研发和制造领域却亟待突破，特别是在新冠疫情之后，全球新一轮的“芯片荒”来袭造成了产业链对于芯片供不应求的问题，我国想要推进独立自主的芯片研发，光刻机的生产制造就显得尤为重要。
芯片虽小，制造难度却很大，而这一过程中一个关键的工艺机器——光刻机的制造成为了一大难题。
芯片之于光刻机，就如同人和大脑的关系，但纵览几十年中国乃至全球球光刻机产业的发展却表现的差强人意，呈现出了唯有荷兰ASML“一家独大”的局面。
我们不禁也对此有很多疑问：为何中国乃至全球对于制造光刻机的难度如此之大？ASML公司是如何做到光刻机产业中“全球霸主”的地位？为何该公司一台光刻机的售价达到了数亿美元？（ASML EUV光刻机TWINSCAN NXE3400B，来源：ASML官网）Q1：光刻机是做什么的？是在造芯的哪个过程发挥作用？光刻机（Photo Lithography) ，又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。
芯片的制造流程极其复杂，我们可以概括为几大步骤：硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻-->刻蚀-->工艺集成等。
光刻工艺是制造流程中最关键的一步，光刻确定了芯片的关键尺寸，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。
光刻工艺的作用是将掩膜版（光刻版）上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。
首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形。
原理示意图如下：（来源：科普中国）通常我们以一个制程所需要经过的掩膜数量来表现这个制程的难易。
根据曝光方式不同，光刻可分为接触式、接近式和投影式；根据光刻面数的不同，有单面对准光刻和双面对准光刻；根据光刻胶类型不同，有薄胶光刻和厚胶光刻。
一般的光刻流程包括底膜处理、涂胶、前烘、对准曝光、显影、刻蚀，去胶光刻检验等，可以根据实际情况调整流程中的操作。
Q2：光刻机是对哪类芯片有影响？如果完全没有光刻机，芯片是否还能正常生产？是否有光刻的替代品？目前，无论是汽车芯片，手机芯片还是其他领域，包括军用，航空航天等应用的芯片都离不开光刻机。
而光刻机本身按照应用可以分为几类，用于芯片前道制造的光刻机，用于后道芯片封装的光刻机和应用于LED制造领域的投影光刻机。
1955年，贝尔实验室的朱尔斯·安德鲁斯和沃尔特·邦德开始把制造印刷电路板的光刻技术应用到硅片上。
1958年，仙童半导体公司的杰·拉斯特和诺伊斯制造出了第一台光刻照相机，用于硅基晶体三极管的制造。
1961年，美国GCA公司制造出了第一台光刻机，从此光刻成为芯片制造中最重要的环节。
因为目前的芯片都还是硅基芯片，历经大半个世纪的发展，从最初的电子管到晶体管，再到集成电路的发明，晶体管的关键尺寸一步一步缩小，而在纳米级别的尺度进行电路雕刻，目前我们所掌握的技术只有光刻。
光刻技术在发展中不断的优化，是一步一步从历史的实践中得出来的工艺，如果想另辟蹊径，我们将面对的是未知的黑暗与技术深渊，其难度不低于研发出高端光刻机。
所以如果没有光刻机，芯片是无法正常制造的，目前也不存在光刻机的替代品。
Q3：为什么光刻机的造价如此之高？究竟是哪部分成本较高？一台高端光刻机的造价需要上亿美元，甚至比一台波音的客机还要贵。
光刻机如此之昂贵的原因是因为其涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。
其中最关键零件之一，由德国蔡司生产的反射镜必须要做到史无前例的光滑度，瑕疵大小仅能以皮米（奈米的千分之一）计。
这样的精度是什么概念？ASML 总裁暨执行长彼得（Peter Wennink）在接受媒体专访时解释，如果反射镜面积有整个德国大，最高的突起处不能高于一公分！因此，光刻机也具备极高的单台价值量，目前世界上最先进的ASML EUV光刻机单价达到近一亿欧元，可满足5nm芯片工艺的生产。
ASML的光源来自于美国Cymer，光学模组来自德国蔡司，计量设备来自美国，但属于德国科技，它的传送带则来自荷兰VDL集团。
一台光刻机90%零件都是通过全球采购，当中涉及到4个国家十多家公司，而下游客户的利益也与ASML牢牢捆绑。
（注：ASML光刻机，来源：ASML官网）Q4：中国明明知道本国的芯片科技较为落后，几十年前为什么不发展芯片和光刻机？我国不是不重视，也不是不发展，而是在当时的国内以及国际大环境下，芯片的问题相对显得“渺小”了。
另外，当年发展两弹一星是国家安全的保障，而芯片问题在民族存亡的问题下，又显得太渺小。
然而中国真的没有发展芯片吗？显然不是，事实上我国的光刻技术起步并不晚，上个世纪60年代我国的中科院就研究出了65接触式的光刻机。
（注：图片来源于网络）1978年，中科院半导体所开始研制半自动接近式光刻机。
1990年，由中科院光电所承担的直接分步重复投影光刻机样机研制成功。
（注：图片来源于网络）1996年，中科院成都光电所研制的0.8-1微米分步重复投影光刻机通过验收。
（注：图片来源于网络）所以，国内的光刻机技术从未停止研发，我们也有自主技术的光刻机，只是从未拥有世界领先的光刻机罢了。
Q5：当前最知名的光刻机厂商是荷兰的ASML，为什么芯片强国美国、日韩没有一家光刻机大厂？在一个盛产风车和郁金香的国家，早期只有三十几个人的ASML是怎么崛起的？要想知道为什么最好的光刻机来自荷兰，而不是美国，得从半导体发展的三个历史阶段说起。
第一阶段：上世纪60~70年代是早期光刻机发展阶段。
当时美国是走在世界前面的，那时候还没有ASML。
光刻机的原理其实像幻灯机一样简单，就是把光通过带电路图的掩膜（Mask，后来也叫光罩）投影到涂有光敏胶的晶圆上。
早期60年代的光刻掩膜版以1：1的尺寸紧贴在晶圆片上，而那时的晶圆也只有1英寸大小。
（注：光刻技术原理图，图片来源于网络）因此，光刻那时并不是高科技，半导体公司通常自己设计工装和工具，比如英特尔开始是买16毫米摄像机的镜头拆了用。
只有GCA、K&S和Kasper等很少几家公司有做过一点点相关设备。
60年代末，日本的尼康和佳能开始进入这个领域，毕竟当时的光刻不比照相机复杂。
1973年，拿到美国军方投资的Perkin Elmer公司推出了投影式光刻系统，搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。
1978年，GCA推出了世界上第一台商用步进光刻机DSW4800（direct step to wafer）。
该机器使用g线汞灯和蔡司光学元件。
以10:1的比例将芯片线路成像到10毫米见方区域。
该机器价格为45万美元，第一台机器以37万美元的价格卖给了德州仪器的研发部门。
由于刚开始DSW4800的生产效率相对较低，所以Perkin Elmer在后面很长一段时间仍处于主导地位。
第二阶段：上世纪80-90年代，半导体产业的第一次“转移”。
80年代左右，因为美国扶植，最开始是将一些装配产业向日本转移，而日本也抓住了机会，在半导体领域趁势崛起。
在90年代前后，日本的半导体产业成为了全球第一，高峰期时占据了全球超过60%的份额，出口额全球第一，超过美国。
在那个芯片制程还停留在微米的时代，能做光刻机的企业，少说也有数十家，而尼康凭借着相机时代的积累，在那个日本半导体产业全面崛起的年代，成为了当之无愧的巨头。
短短几年，尼康就将昔日光刻机大国美国拉下马，与旧王者GCA平起平坐，拿下三成市场份额。
（注：尼康光刻机，来源于尼康官网）而后来尼康作为九十年代最大的光刻机巨头，它的衰落，说来也充满偶然，始于那一回157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争。
当时的光刻机的光源波长被卡死在193nm，是摆在全产业面前的一道难关。
降低光的波长，从光源出发是根本方法，但高中学生都知道，光由真空入水，因为水的折射率，光的波长会改变——在透镜和硅片之间加一层水，由于水对 193nm 光的折射率 高达 1.44，原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的天堑，降低到134nm了吗！（注：浸没式光刻可缩短等效波长，来源：Nikon，《纳米集成电路制造工艺》）2002年，时任台积电前研发副总经理的林本坚拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍美国、德国、日本等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。
（注：林本坚，左六，图片源自网络）当时还是小角色的ASML（1984年飞利浦和一家小公司ASM Internationa以50:50组成的合资公司，最初员工只有31人）决定赌一把，相比之前在传统干式微影上的投入，押注浸润式技术更有可能以小博大。
于是ASML和林本坚一拍即合，仅用一年多的时间，就在2004年拼全力赶出了第一台样机，并先后夺下IBM和台积电等大客户的订单。
第三阶段：新千年前后时期，荷兰ASML的崛起。
1997年，英特尔攒起了一个叫EUV LLC的联盟。
联盟中的名字个个如雷贯耳：除了英特尔和牵头的美国能源部以外，还有摩托罗拉、AMD、IBM，以及能源部下属三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
这些实验室是美国科技发展的幕后英雄，他们之前的研究成果覆盖了物理、化学、制造业、半导体产业的各种前沿方向，有核武器、超级计算机、国家点火装置，甚至还有二十多种新发现的化学元素。
资金到位，技术入场，人才云集，但偏偏联盟中的美国光刻机企业SVG、Ultratech早在80年代就被尼康打得七零八落，根本烂泥扶不上墙。
于是，英特尔力邀ASML和尼康加入EUV LLC。
但问题在于，这两家公司，一个来自日本，一个来自荷兰，都不是本土企业。
（注：Ultratech光刻机，图片来源于网络）当时的美国政府将EUV技术视为推动本国半导体产业发展的核心技术，并不太希望外国企业参与其中，更何况是八九十年代在半导体领域压了美国风头的日本。
但EUV光刻机又几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。
光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，其配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高。
别说日本与荷兰，就算是美国，想要一己之力自主突破这项技术，可以说是比登天还难，毕竟美国已经登月了。
最后，ASML同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，以此满足所有美国本土的产能需求。
另外，还保证55%的零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查。
所以为什么美国能禁止荷兰的光刻机出口中国，一切的原因都始于此时。
错失EUV的尼康，还未完全失去机会，让它一蹶不振的，是盟友的离开。
当时的英特尔为了防止核心设备供应商一家独大，制作22nm的芯片还是一直采购ASML和尼康两家的光刻机。
但“备胎终究是备胎”，一转身，英特尔就为了延续摩尔定律的节奏，巨资入股ASML，顺带将EUV技术托付。
另一边，相比一步步集成了全球制造业精华的ASML，早年间就习惯单打独斗的尼康在遭遇美国封锁后，更是一步步落后，先进设备技术跟不上且不提，就连落后设备的制造效率也迟迟提不上来。
而佳能在光刻机领域一直没有争过老大，当年它的数码相机称霸世界，利润很高，但是对一年销量只有上百台的光刻机根本没有给予重视。
2012年，英特尔连同三星和台积电，三家企业共计投资52.29亿欧元，先后入股ASML，以此获得优先供货权，结成紧密的利益共同体。
在2015年，第一台可量产的EUV样机正式发布，意味着在7nm以下的先进工艺节点，ASML再无对手！Q6：是否可以说全球的芯片产业被ASML扼制住了咽喉？有没有能对ASML产生威胁的厂商？他们的技术水平如何？与其说全球的芯片产业被ASML遏制住了咽喉，不如说是被ASML及其背后的利益共同体扼制住了咽喉。
除了ASML，目前世界上其他比较先进的光刻机厂商分别是日本的尼康和佳能。
从目前尼康的官网上可以看到尼康最先进的光刻机型号为NSR-S635E。
（注：尼康的最先进NSR-S635E光刻机，来源：尼康官网）从其关键参数和介绍来看，其光源波长为193nm，水平大致相当于ASML DUV光刻机的水平。
不过，依照ASML(ASML)、尼康、佳能三家公司的官方数据整理得知，去年全球光刻机总销售量为413台。
其中ASML销售258台占比62%，佳能销售122台占比30%，尼康销售33台占比8%。
按照销售额来计算的话，因为最昂贵的EUV只有ASML制造销售，所以总的份额占比依次是91%、3%、6%。
所以目前无论是尼康还是佳能都无法对ASML构成威胁。
（注：尼康NSR-S635E光刻机参数表，来源：尼康官网）Q7：当前中国光刻机研发实力如何？是否具备独立制造光刻机的实力？相比ASML的崛起，中国有强大的基础，为什么现在造出一台光刻机这么难？目前最好的国产光刻机是什么实力水平？相当于国际上什么样级别的产品？目前中国具备独立制造光刻机的实力，光刻机企业包括上海微电子装备（SMEE）合肥鑫硕半导体，无锡迎翔半导体等。
其中最先进的是上海微电子装备有限公司的600系列光刻机，可满足IC制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。
该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
据悉，SMEE今年即将交付可以制造28nm芯片的光刻机，对此我们拭目以待。
（注：SMEE系列光刻机，来源：SMEE官网）目前，SMEE的光刻机使用的光源分别为深紫外ArF（193nm）、KrF（248nm），i-line (365nm)，虽然已经用到了深紫外光源，但其整体制造能力距离ASML的第四代光刻机DUV光刻机还差一大截，整体水平相当于ASML 2003年左右的第三代光刻机TWINSCAN AT:1150i，从这方面来看，与国外的差距有18年。
但随着新工艺研发难度的提高，国外的工艺进程也放缓，况且很多原理我们已经了解，相信国内与国际先进制程的真实差距在10-15年左右。
（来源：SMEE官网）Q8：ASML的光刻机制造，几乎也是靠全球化产业链完成的，按照当前的国际形势，中国制造一台光刻机的难度是不是比以往更大了？高端光刻机的制造困难在其中的众多核心部件都是极其精密的，光刻机不是一个国家的技术，而是用整个西方最先进的工业体系在支撑。
无论是在过去还是现在，中国想独立制造一台高端的光刻机都非常的难。
对于光刻机众多的核心部件，想在每一个上面都做到世界级的精度几乎是一个不可能完成的任务。
另一个原因就是《瓦森纳协议》的存在，它是由欧美强国制定的一个先进技术限制出口的方案，旨在保护其先进核心技术不外泄。
虽然它是由欧美40多个国家共同指定的，但是基本受美国掌控，并且直指中国。
比如在2004年，捷克拟向中国出口“无源雷达设备”时，美国便向捷克施加压力，迫使捷克停止这项交易。
（注：瓦森纳协议）Q9：中国芯片厂商很多时候是买二手的光刻机，二手产品对芯片会有哪些影响？为何不买最新的？造成中国厂商购买二手光刻机的主要原因还是由国内半导体产业链供需失衡导致的。
为了缓解产能不足的情况，导致日本大量的二手设备流入中国，甚至现在连二手设备都已经大幅涨价。
这也从侧面说明了目前我国芯片制造设备，即使在成熟工艺上依然无法自给自足。
至于为什么不买最新的，原因之一是买不到，还有一个原因是二手设备具有明显的价格优势，通常为新设备价格的70%不到。
半导体作为资金密集型的产业，前期的投入是巨大的，所以削减成本以维持其利润也是企业要考虑的问题。
另外很多领域需要的芯片是成熟的工艺制程，二手设备也是可以满足需求的。
Q10：ASML光刻机曾一度被禁止运送至中国，这是否也加大了中国的芯片荒程度？是否有比较好的解决方案？如果没有好的解决方案，中国芯片产业将面临怎样的困境？这的确在一定程度上加大了国内芯片荒的程度。
但是ASML的光刻机并未完全禁止出口给中国，3月3日中芯国际与ASML签订了12亿美元的协议购买光刻机，预计会包含NXT 1980Di，NXT2050i等DUV光刻机，可以用于制造14nm或者制程更先进的芯片。
（注：芯片短缺已波及全球，图片来源于网络）目前的芯片短缺已经不仅仅是中国的问题，也是世界性的问题。
短期之内没有太好的办法，但是长期来看，我国已然开始重视半导体产业，在“十四五”规划和2035远景目标纲要中，提到了要“增强集成电路产业自主创新能力，推动先进工艺等重大项目尽早达产”等战略目标。
在摩尔定律放缓的今天，只要我们稳扎稳打，就一定能缩小与世界先进工艺的差距，甚至在未来十年迎头赶上。
EUV光刻机作为集成了全球最顶尖技术的产品，为其供应零部件的是来自不同国家的上百个企业。
这也是为什么一位ASML的高管敢于放豪言说：即使开放图纸给中国，中国也造不出来光刻机。
事实上，ASML对向中国出售光刻机一直都是持积极态度的，2020年，ASML发往中国大陆地区的光刻机台数超过了其发往全球总数的20%，中国是ASML最大的客户之一。
有人说，我们造的出来原子弹，难道造不出来光刻机？笔者认为，时代变了，我们以举国之力去造光刻机并不见得是一个明智的选择，因为其需要投入的资金以数千亿计，更需要投入大量的高端人才。
与其把目光全部放到光刻机上，不如提升我们的综合国力和在世界舞台的地位，与其单纯的提升技术，在政治方面寻求突破也许也是一个不错的选择。
参考资料：1、《金捷幡 光刻机之战》作者: 金捷幡2、《拉下尼康，ASML 是如何一举称王的？》作者：魔铁的世界3、《U.S. gives ok to ASML on EUV effort》来自EE Times【版权声明】本文著作权归文章作者（笔名：温戈）所有，任何第三方未经授权，不得转载。
编辑于 2022-09-19 09:23・IP 属地吉林真诚赞赏，手留余香赞赏1 人已赞赏赞同 995166 条评论分享收藏喜欢收起。
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温戈 - 976 个点赞 👍
这一堆匿名的 我替大家先存着 免得他们删帖 年底我们再来看如何 到底是不是闭眼爽文二更 20230313 三更不是 珠海和南沙这两哥们你们复制文案的时候可以稍微改一下吗？这样演都不演很违和哎2022.3.15 三更这问题下的回答真是越看越有意思 都是在xxx 你们应该能猜到 挺奇怪的 反正我是猜不到也不想猜 我们就一起期待2024甚至2025能不能真的看到在光刻机乃至芯片有什么惊喜BTW.那个回答光刻胶更重要的老哥，三天前本子宣布对华断供光刻胶，这下需要自主攻关的东西又多了一样（光刻胶有有效期的，囤不了货）。
编辑于 2023-03-15 16:15・IP 属地山东赞同 976191 条评论分享收藏喜欢收起。
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cccccy - 969 个点赞 👍
要在办公室用10kg钢铁生产10万个7nm的小球，要求大小一致，重量均匀，俺们做不到；俺就用10吨钢铁在足球场生产，虽然生产的小球大小不一致，但是俺们用筛子筛一筛，竟然能有100万个7nm小球，甚至有20万个5nm小球和5万个3nm小球！[呲牙]发布于 2023-09-14 17:52・IP 属地上海赞同 969303 条评论分享收藏喜欢。
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果冻 - 947 个点赞 👍
这个回答下的众多为国产光刻机努力的专业人士，让我想起了鲁迅先生的话：“我们从古以来，就有埋头苦干的人，有拼命硬干的人，有为民请命的人，有舍身求法的人，……虽是等于为帝王将相作家谱的所谓“正史”，也往往掩不住他们的光耀，这就是中国的脊梁。
”加油。
发布于 2023-03-20 09:20・IP 属地北京赞同 94724 条评论分享收藏喜欢。
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Action Potential - 927 个点赞 👍
难道各位没有发现，现在已经公开、半公开和匿名回答的消息都已经指向了一个事实：那就是光刻机其实已经搞出来了，并且通过了产线验证，只是还并没有量产。
已经公开的消息：去年底公开的哈工大搞的激光干涉仪见下图，注意字眼：国产14nm工艺平台半公开或者旁敲侧击的消息：苗圩介绍中国集成电路发展现状的时候说到今年要大力扩产28nm，如果只能靠找ASML买，能有底气说出“大力扩产”？特别是公开的哈工大高精度激光干涉仪的获奖消息，说明这个东西早就搞出来了，只是一直在产线做验证。
既然公开颁奖，说明产线验证已经是OK的了一些不靠谱的猜测：应该是ArF的国产DUV光刻机，采用浸没式一次曝光可以做到28nm，二次曝光可以做到14nm。
至于多次曝光做到7nm应该还没有跑通，良率还没爬上去，但也就是这一两年。
编辑于 2023-03-15 01:12・IP 属地重庆赞同 927367 条评论分享收藏喜欢收起。
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巴伦勃伊姆 - 913 个点赞 👍
想听真话吗？干货是有的，证据是有的。
哈工大知道吧？被美国制裁那个。
哈工大的高速超精密激光干涉仪得到了金燧奖第一名。
熟悉半导体的都知道这玩意儿是干什么的，哈工大的这个突破，基本宣布了国产光刻机的最后一道难关被攻克。
有网友表示他们公司已经开始给哈工大提供光刻机配件，表明光刻机制造已经进入后期阶段（要查水表去查该网友，该网友为辽宁人，系b站网友，别查我）但问题来了，国产光刻机能达到什么水平？我推测应该能达到90nm制程。
为啥是90nm，熟悉芯片业的都知道其实45nm还是有点难度的。
但要是国内人敢整个180nm出来，怕不是会被喷死，弄了半天就180nm，根本无法给国人交代。
所以，难度适中的90nm是最合适的。
只要国产光刻机顺利，能够达到90nm制程，一旦工艺成熟，中国工程师不拉垮的话，按照摩尔定律，一年半后就能45nm，再一年半28nm。
三年后就能达到 duv光刻机理论上限。
乐观估计，五年内纯国产芯片能达到28nm水平。
28nm已经具备上手机，内存，cpu等高级货的资格了。
要是能突破duv，弄出euv，以中国人之能，3年达到10nm一点问题没有。
乐观点，8年内有机会华为用上中国最好的全国产手机芯片。
10年内，国产的cpu，显卡，内存全面爆发。
美国的nvdia，intel，这些怕是很危险了发布于 2023-03-06 05:26・IP 属地四川赞同 913288 条评论分享收藏喜欢收起。
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我原谅不了我 - 892 个点赞 👍
这个版本快要过时了。
新版本是足球和篮球。
你们要与时俱进才是。
发布于 2023-09-03 16:54・IP 属地中国香港赞同 89277 条评论分享收藏喜欢。
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FanFanFan - 882 个点赞 👍
2023年8月29日更新：我急了，我急了，睡个午觉发售了，像被打了一闷棍。
已经确定是麒麟芯片+5G。
14nm肯定有了，7nm看起来不像。
---------------------------------------------------战报可以造假，但是战线不会。
华为9月12号的发布会会有答案的。
华为用到什么芯片，中国最先进的芯片就到什么地步了。
个人估计是14nm。
希望真的有龙吟。
编辑于 2023-08-29 20:56・IP 属地浙江赞同 882413 条评论分享收藏喜欢。
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聊天达人石破天 - 865 个点赞 👍
坐标成都，非光刻机业内人士，嵌入式硬件工程师从制裁开始一直到现在都很忙其实半导体这块蛋糕，高端制程只是一部分绝大部分的蛋糕还是14nm以上的制程的芯片，比如车机，家电，电子电力等等一些关键领域的芯片还是意法半导体，英飞凌，瑞萨，德州仪器的天下但是渐渐的，我们有了国产化芯片的选择，特别是疫情以来，经过芯片暴涨这是个好现象，国内好像也在购买非先进制程的光刻机，具体没去了解但是现在客户要求我们出设计方案除了最优方案之外，还会附带要求我们出全国产化的设计方案，这是吸取了中兴华为的教训但是说实话，做国产化方案真的很累，但是有意义因为技术文档和实物............一个在说城门楼子，一个在说胯骨轴子，你按照示范电路做出来技术文档上给的拉起电压是3.3V，实际上你给到5V它也一动不动各种莫名其妙的BUG让你头都秃了文档杂乱，不规范，描述不清晰，技术支持不完善在市场这一块，国内芯片还有很长的一段路要走但是还好，这一切在慢慢变好，买家给够了销量，市场给够了利润就会吸引越来越多的人和资本进来做的人多了，用的人多了，反馈多了，就慢慢规范了我现在就是有问题就反馈，不管有用没用那些买办，买片贴标的不提有的厂家真心在做产品的，都会派人，派工程师认真和我对接哪怕我只是买少量的产品，我问对方，我就这么点销量，你们也愿意？对方说，我们在意的，是遇到的问题，哪怕你是二手拆机的芯片，只要你反馈了，我们都会查我们都多做一点点，半导体相关的水平就能进步一点点等吧！！！等国内厮杀出巨头，这一切就会慢慢改善说句和现在知乎一片哀号不相干的。
有些理想主义的话一代人有一代人的长征，我没有那么豪迈的壮志推动半导体进步我只能在我的岗位上为国产的芯片多做一点点适配多反馈一些问题多提一些建议编辑于 2022-09-24 21:59・IP 属地四川真诚赞赏，手留余香赞赏还没有人赞赏，快来当第一个赞赏的人吧！赞同 86592 条评论分享收藏喜欢收起。
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山有木兮 - 800 个点赞 👍
那些说中国这不行那不行，对中国未来灰暗意志信念如此坚定的人，能不能求求你们，学好外语去给老美讲，告诉他们中国真的不行，不要再制裁了，告诉他们中国马上就要奔溃了，你们天天在网上和和我这种屁民讲，压根不起作用啊。
求求你们了，听听劝，去劝劝老美吧。
发布于 2023-01-30 15:06・IP 属地宁夏赞同 800123 条评论分享收藏喜欢。
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摩西 - 795 个点赞 👍
好消息，保住了一些人的脑袋。
坏消息，没保住另一些人的膝盖。
发布于 2023-08-30 14:02・IP 属地安徽赞同 7956 条评论分享收藏喜欢。
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