为什么之前没想到建光刻厂这样的办法？

同步辐射做一台光刻机，有很大的问题。最明显的问题就是占地面积太大，导致产能不足。

你一个FAB就一台EUV光刻机，一个5nm芯片那么多关键层，这个FAB的产能能有多少？成本和效率上完全划不来。