由于最近某大厂发新手机，造成全网自媒体狂欢罢了。整件事情就是自媒体为了塑造出更多“赢”的材料，搜索出一篇看上去像样子的新闻，加上自己的臆测造出来的狂欢罢了。
看到这个问题的时候，我就想起来最近看到另一篇新闻，说小米也开始大量招收芯片工程师，想要开始搞芯片了，并贴出来招聘信息以证明。
但是熟悉小米的都知道，小米大量招收芯片工程师要开始搞芯片，从2021年就开始，根本不是最近，更不是受了某厂新手机的刺激。所以这件事和现在光刻厂一事实际上非常像，都是自媒体为了有更多的内容去吹，在某厂新手机一事后全网检索类似事件，并添油加醋创造出来的假新闻罢了。
纯生编的东西太假了，而最容易骗过别人的就是这种半真半假的消息，在上面的例子里，小米招收芯片工程师是真，最近才开始大量招是假的，但是给人一种错觉，你看到真实招聘信息很容易全盘一起接受。
我们说回正题，同步辐射光源可以用来光刻由来已久，上世纪就有人提出来了。而SSMB作为一种产生光刻机光源的方案，至少五年前我各处搜索论文的时候就见过。2021年的时候清华大学团队就这个方案还发过nature，所以首先它不是最近才有人想到，充其量只能算最近才被人翻出来。
有些自媒体可能还想找一些其他的证据，于是看了一些科普，不知道是不是没看懂，于是传播过程中又新增了其他的谣言，比如最近自媒体说的很多的“没法在5米内控制光源在1nm内移动，但是用5000m就好控制了”这不仅是对光刻原理的误读，也是对光源原理的误读。首先SSMB作为一种同步辐射光源，是没有光子跑5000m的，在加速器里跑圈的是电子。另外需要控制光源移动的光刻被称之为直接光刻法，由于效率问题现在使用并不划算，所以现在光刻用的是掩模法，掩模法光刻中并不存在光源的纳米级移动，而是在晶圆表面成像。
还有一些张冠李戴，一些人可能直觉性的认为SSMB就是同步辐射光源，于是又找了同步辐射光源的资料，给了怀柔HEPS项目的图称之为“最新的光刻机光源”。实际上HEPS光源并不能用于光刻。有一些文章可能提到了雄安计划建造的SSMB光源，但是配图却是怀柔的HEPS。我在网上尝试搜索雄安SSMB装置的图片，并没有找到明确的图片，我推测这个项目可能刚刚开工，还没有明显的建出环状加速器。
最后是对项目进度的过于乐观的估计。好像大家觉得这个技术最近马上就要突破了，更有甚者认为某大厂最近这批芯片就是由这样的光刻机制造出来的。实际上这个技术离应用还非常远，首先怀柔HEPS仍未完全交付使用，就算明年交付使用了它的光源也不能用于光刻。雄安SSMB项目则是刚开始建设，作为与HEPS原理类似、项目规模类似的加速器项目，如果雄安建设只用了HEPS一半的时间，那也得到2026年左右才能交付使用。而且注意，雄安SSMB项目只是一个科研项目，主要用来研究这样的EUV光源有什么特性，配套光刻机的研发和建设只会更晚。
总结：这几天关于SSMB EUV光源光刻机的报道和网民的畅想，是在自媒体催化下编造出的半真半假的假新闻。真的部分是SSMB确实是一种EUV光源技术，未来有潜力用于光刻。假的部分是首先这个概念并不是最近才提出，也不是中国团队最早提出，其次这个概念目前只是用于科研，在建的项目也主要用于实验测试。从实验室到产业化还有很远很远的路要走。最后，成熟的LPP光源和SSMB光源并不是谁取代谁的关系，而是各有优缺点，国内仍然有团队在研发LPP EUV光源。