也许原理上行得通，但几乎永远无法被产业采用。
作为一个在芯片量产线上熬了很多年的工程师，看到这个消息的第一反应就是不靠谱。因为工艺成本与量产可行性都是这个方案无法逾越的鸿沟。
一个只占fab一小部分面积的光刻黄光间，变成了一个占地面积巨大的光刻厂。
潜台词就是光刻的成本极大地增加了。
比如电费，实际上，大家所说的小型化的ASML的EUV光刻机，就已经是惊人的电老虎了，公开的报道在网上一搜一大把：
EUV光刻机日耗电3万度 台积电为电费上涨发愁：一年多花26亿而光刻机大型化的耗电只会更高，甚至高到商用芯片难以承受的程度。外行们鼓吹的“跟死星启动一样”，实际上并不是什么可值得吹嘘的地方，反而是它的致命弱点。
这还没算上“光刻厂”建造成本、用地成本，因为看护光源模块的人力成本。
再说量产可行性。
芯片量产线最大忌讳之一：单机台（业内称为single tool，翻译过来好别扭啊）。
做过半导体工艺的人都知道，哪一道工艺是单机台，那这个厂总体量产的瓶颈往往就是由这个机台所决定的（但像炉管这种单机台吞吐量能