对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

个人估计是骗补的，以清廉指数来看，科研界清廉指数差不多也是罗刹海市。

个人原因：再大的画板（晶圆）：

1.集中深紫外线的玻璃：你的画笔（深紫外线）也需要10nm才能做出5nm（三次曝光，曝光越多良品越低）用到精度很高的削皮刀（一块集中深紫外线的玻璃，这个玻璃放大到德国，其表面起伏度不超过0.1mm）。

2.多次控制深紫外线移动的高精度仪器：现在做3Nm，如果本来能画的是6nm，需要在6nm的正方形下，再次控制“笔”右偏移3nm画一次6nm的方形，再下偏移“笔”3nm画一次6nm的方形。试问这个只移动3nm的高精度仪器，5万多个来自多国的高科技零件，你真的在这种技术下不需要吗？那么你就做出缝隙本身具有3nm的深紫外线光？？？这样你良品率也能100%

3.本身的笔确实有论文，但是：DUA和EUA，在于让激光精确的撞击铀导致50万还是5万摄氏度来着，然后让DUA的光穿过这些蒸发铀形成EUA深紫外线光。听闻天朝要做大规模深紫外线光，那么这些铀是什么样，这些光是什么样，这么多的光需要多大的玻璃如何集中成很多的不交叉的笔。