总结来说, SSMB-EUV 光源用于 EUV 光刻具有以下特点及潜在优势.
1) 高平均功率: SSMB 储存环支持安装多条 EUV 光束线, 可同时作为光刻大功率照明光源及掩模、光学器件的检测光源, 还可以为 EUV 光刻胶的研究提供支撑; ≲ 0.1
2) 窄带宽与高准直性: SSMB 光源容易实现EUV 光刻所需的小于 2% 的窄带宽要求, 并且波荡器辐射集中于 mrad 的角度范围内. 窄带宽以及高准直的特性可为基于 SSMB 的 EUV 光刻光学系统带来创新性的设计, 同时可以降低 EUV光学反射镜的工艺难度;
3) 高稳定性的连续波输出: SSMB 输出的是连续波或准连续波辐射, 可以避免辐射功率大幅涨落而引起的对芯片的损伤. 储存环光源的稳定性好, 采用 top-up 运行模式的 SSMB 储存环, 可使光源的长时间可用性得到进一步提升;
4) 辐射清洁: 与 LPP-EUV 光源相比, 波荡器辐射的高真空环境对光刻的光学系统反射镜不会产生污染, 镜子的使用寿命可以大大延长;
5) 可拓展性: SSMB 原理上容易往更短波长拓展, 为下一代采用波长 6.x nm 的 Blue-X 光刻技术留有可能.
因此, SSMB-EUV 光源的实现有望帮助我国EUV 光刻实现跨越式发展. 同时, SSMB 加速器光源可以提供高平均功率、窄线宽的太赫兹到软X 射线波段的相干辐射, 且时间结构大范围可调,对物理、化学、能源、环境等学科的前沿基础研究与应用基础研究, 可以提供前所未有的工具和手段.
SSMB 加速器光源已经引起了科学界及产业界的广泛关注. 随着对 SSMB 储存环物理研究的深入, 以及对其关键技术的掌握, SSMB 加速器光作为光刻产业光源及科学研究光源是可以预期的, 其性能也必将会不断提高, 造价也会逐渐降低,同时 SSMB 加速器光源的应用也会得到更加广泛的拓展.
文章引自 稳态微聚束加速器光源* 唐传祥 邓秀杰