在商业上，这个EUV光源最终大规模应用于集成电路光刻的概率很低。
不是说这个技术路线行不通，而是在于这种技术如果要大规模商用，将完全颠覆最近40年形成的芯片生产的根本特征。
很多人说这恰恰是我们弯道超车的机会，但是必须意识到的是，当下中国所有的芯片产能也是全部以全球通用的模式来运行的。要打碎的旧世界也包括我们自己。
而更为重要的是，很多人想当然的认为，国产光刻机仅仅卡在了光源这一环。事实上是，在光刻机最核心的镜头，控制系统，光源，以及相对辅助的光刻胶，掩膜版等技术上，国产技术都还有很长的路要走。要知道，上海微电子原定2021年就要交付的28nmDUV光刻机至今难产。困扰我们的远不仅仅是光源。
更不用说，这种新的光刻厂模式带来更多的新的问题：洁净室布局和运行的全面再定义，其他七大芯片工艺设备在新模式下和光刻机的合作方式，以及这种光刻机集中化带来的产业链的全新定义。
在我看来，这些延伸出来的问题的解决没有一个会比EUV光源的研发更简单。有这功夫，我不相信我们依然无法在现有技术路线下，解决光刻机的光源问题。
所以，这个EUV光源，更多给我们带来的，是多了一个博弈筹码。这给了ASML一个警告，做人留一线，不要太过分，我们有鱼死网破的能力。虽然，真走到这一步对于所有人都很不经济。
发布于 2023-09-18 11:07・IP 属地上海