也许原理上行得通，但几乎永远无法被产业采用。
作为一个在芯片量产线上熬了很多年的工程师，看到这个消息的第一反应就是不靠谱。因为工艺成本与量产可行性都是这个方案无法逾越的鸿沟。
一个只占fab一小部分面积的光刻黄光间，变成了一个占地面积巨大的光刻厂。
潜台词就是光刻的成本极大地增加了。
比如电费，实际上，大家所说的小型化的ASML的EUV光刻机，就已经是惊人的电老虎了，公开的报道在网上一搜一大把：
而光刻机大型化的耗电只会更高，甚至高到商用芯片难以承受的程度。外行们鼓吹的“跟死星启动一样”，实际上并不是什么可值得吹嘘的地方，反而是它的致命弱点。
这还没算上“光刻厂”建造成本、用地成本，因为看护光源模块的人力成本。
再说量产可行性。
芯片量产线最大忌讳之一：单机台（业内称为single tool，翻译过来好别扭啊）。
做过半导体工艺的人都知道，哪一道工艺是单机台，那这个厂总体量产的瓶颈往往就是由这个机台所决定的（但像炉管这种单机台吞吐量能力极大的工艺除外）。换句话说，如果哪个新foundry真是的不得已采用了某一道工艺单机台（比如因为制裁，买不到足够量的设备），就可以认为它产能是极其有限的，无法满足消费级芯片使用。
现在情况甚至比这还要严重。因为常规玩法只是造成了这个机台涉及的几个步骤的产能制约。现在一旦光源宕机，那用到这个光源的所有光刻步骤的产能都要被制约。
量产可行性的另一个方面，它需要具备无故障连续运行的能力足够高。
因为如果机台频繁宕机，达不到足够的生产效率也没有意义。
宕机的原因可以分为主动宕机和被动宕机。
主动宕机是指，代工厂按照既定时间计划，每隔固定时间将机台停机，以更换一些消耗性的零件，专业术语叫做PM（Precise Maintenance）。类似于车辆的定期保养。ASML光刻机的PM周期差不多是星期到月这个水平。
被动宕机是指，机台发生了故障或者工艺能力漂移，造成了芯片电路良率风险，所以不得不停机检查故障来源（这也是我们这帮半导体民工的主要工作压力来源）。
当前ASML路线小型化的EUV光刻机，已经因为其部件众多、需精密维护而造成宕机频率不低了，而机台大型化，子模块数目成几何级倍数增长不可避免地造成PM周期变短且被动故障几率变高。这些都会让其宕机频率大大提高。
最后的局面就是，量产晶圆还排队在光刻这道等机时，而消费者那面天天骂着华子玩饥饿营销而丧失了耐心。
综上，至少在相当长的时间内，这套方案仅能够实现一些行业的EUV光源提供，如科研这种不计成本、可容忍低效率的行业。
半导体这种极其讲究成本、效率与规模效应的产业，很难采用这个方案。
这也就是为什么，网上曝光的所谓的光刻机多路线饱和式科研中（如果有），华子等企业界的路线并没有走这个方案。
不过话又说回来，清华至始至终也没说过这套光源是为了半导体制造用吧，如果有，那其实和碳基芯片弯道超车这种骗补把戏一样，其心可诛。
这个事情，八成又是被自媒体煽动的流量游戏。