对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

对我国投入基于SSMB的极紫外光刻技术(EUV),我认为这是一个正确的战略方向,具有非常积极的意义:

1. EUV是未来半导体芯片制造的关键技术,属于制程极致的光刻技术,具有极高的分辨率。掌握EUV对我国半导体产业发展至关重要。
2. SSMB(折射透镜+多层膜反射镜+掩模板+光刻胶)是EUV的核心技术装备,我国已取得重大突破,具备进入国际先进行列的实力。
3. 掌握EUV技术,可以缩小我国与国际先进水平的差距,达到世界制造强国的要求。
4. 投入EUV研发,可以促进我国光学、材料、精密制造等多领域技术进步。
5. EUV技术对国防军工也有重要应用,投入EUV符合国家战略需求。
6. 中微半导体、上光电已经取得EUV技术突破,展现出我国攀登国际科技高峰的决心和实力。

综上所述,我国投入EUV研发是一个非常正确的战略举措,既能提升产业技术水平,也能增强国防科技实力,对于实现科技进步和经济发展具有重大意义,应该给予大力支持。