对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

某高赞回答里说“一旦建成投产，将会对传统光刻机形成‘工业化流水线对作坊式生产’的降维打击。” 作为一名在芯片行业从业十六年的老兵，我想说：

1）得出上述观点的答主大概率不是本行业的，且百分之九十九概率没见过fab生产线；

2）这台同步辐射光源装置与芯片代工厂的光刻机几乎没什么关系；

3）我们国家不用EUV，也可以用193i通过SADP实现N7，并通过工艺与芯片架构的DTCO实现能效提升；

4）如果没有关键辅料（如光刻胶）、上下游工艺（刻蚀、淀积、扩散、注入、研磨等）、高洁净自动化产线的配合，仅仅依靠集中式的EUV光源，是造不出量产芯片或无法形成芯片产业的。

综上，这是一台科研装置，但跟国内芯片产业目前的亟需没有直接关系，且大概率无法应用于fab。