对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

这只是个光源，但光刻机的难点可不单是光源或可以不是光源。

先解释为什么不单是光源：光刻最终是要蚀刻到材料中，而在20 nm以下的尺度，光子噪声和化学噪声会引入随机效应，导致光刻胶图形具有一定的粗糙度，成形特征尺寸的局部变化和随机成形缺陷。EUV光子能量高，对这些随机效应还更敏感。为此，还需要寻找更合适的材料。

再解释为什么可以不是光源：根据衍射效应得出的经典分辨率极限限制了光的波长，但经典分辨率极限的推导采用了远场光和线性光学介质的假设，事实上利用近场光和非线性光学介质是可以避开这个极限的。有课题组就借助这点在800 nm曝光波长下实现了40 nm的分辨率。