对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

看了一些资料。

第一：ssmb 是2010年提出的技术。

第二：清华2017年组建团队进行研究。

第三：2019年，清华和德国的研究机构合作，在柏林验证了ssmb的理论是成立的。

第四：在搞ssmb的实验装置。

目前来说，是一个前沿的技术研究。euv 是其中一个预计的应用方向。

研究机构，目前还在“我们来想办法搞出需要的光来”的阶段。

搞出来后，如何利用，并且建立生产线，稳定生产芯片，尚还遥远。

这个光，理论上看确实可以，波长从0.3nm起。

很有可能是下一代芯片制造的解决方案。