对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

网上说的是正在建设中的

【中国科学院高能物理研究所高能同步辐射光源】厂

这是目前天地图上的最新的进度。这个项目是在2020年开始建设的。半导体封锁是2019年开始的。

2020年开始建设，那么说明再更早的时候就已经论证过需要建设这个高能同步辐射光源。

实际上在2016年的时候就开始论证研究了。

这个高能同步辐射光源有很多作用。现在无法确定是为了专门解决光刻机来建造的。

资料上说：为“十三五”国家重大科技基础设施，设施建成后，将成为世界上发射度最低、亮度最高的第四代同步辐射光源之一，最“亮”的光将帮助人类更细致观察微观物质的细节，为国家解决在资源、能源、环境、人口和健康等诸多领域面临的挑战提供科学基础。

可见这个是专门为了觉得基础物理的。所以很很明显它的作用将十分巨大。

但是就目前而言，它完全可以生产（没错是生产）出来用于制造芯片所使用的光线。对于3nm 5nm的需求可以轻松应对。甚至是1nm的光线。这解决了我们生产高端芯片的唯一短板。

这与ASML的逻辑完全是不一致的。这是个全新的思路。例如可以持续输出1nm 3nm 5nm 7nm 12nm 28nm 等等所需要的光线。也就是说这个厂子可以同时生产用于各种制程的芯片。

以上是个人理解，实际会不会给制造芯片提供光源仍然没有确切消息。