对于我国目前不造光刻机了，造光刻厂，大家怎么看?

这两天光刻机的新闻看到了很多，光刻机啊，表面起伏不超过0.05nm的透镜，定位精度小于1nm的双工件台，激光脉冲轰击液态锡激发等离子态产生的13.5nm的euv光源，等等，咱们国家确实很难在短时间内追上。

基于同步辐射这个方案造“光刻厂”应该确实可能是未来发展光刻的一个很好的方向，或许还能应用在许多其他领域，但是肯定不像网上那些帖子说的那么简单和轻而易举。事实上我国也并没有放弃光刻机这条路，一直在努力攻克，应该很快也就有消息了。而咱们的特性一贯是饱和式，多路并行。一种设备从理论到设计到落地为试验机，到进入量产，到得到市场认可，面临着无数的问题。目前必然还不成熟，应该也不会在短期内那么快用到芯片量产领域，但是未来可期。

说个题外话，看到不少言论对各种国产化设备研发嫌慢的，但这几年咱们进展已经很快了啊！高端芯片制造不仅是光刻机一种设备就能完成，面临的各种困难也不单是单个人或者一家企业就能攻克，需要各个行业的力量。始终相信，咱们各个领域被卡脖子的问题都会慢慢变成历史。