国产光刻工厂新思路？是真的吗？目前进展如何?

从目前的信息来看，物理原理没有问题。中国科学院高能物理研究所建设的高能同步光源也确实存在。

他们网页上的介绍( HEPS (ihep.ac.cn) )：

高能同步辐射光源（High Energy Photon Source, 简称HEPS）是《国家重大科技基础设施建设“十三五”规划》优先布局的十个重大科技基础设施之一，储存环能量为6GeV、发射度小于60pm·rad。由中国科学院高能物理研究所承建。HEPS位于北京怀柔科学城北部核心区，距北京首都国际机场约45km，2019年6月开工建设。作为亚洲首个第四代同步辐射光源，也是中国第一个高能量的同步辐射光源，HEPS的建设将填补我国高能和第四代同步辐射装置的空白，为国家重大科技任务开展、工业核心能力提升、基础前沿科学发展提供先进的实验平台和基础条件支撑，是推动我国同步辐射装置达到世界先进水平的重要举措。HEPS作为一个国家建设的大科学装置，是面向国内外用户的开放的公共研究平台，对于非商业研究均免费使用。
HEPS共有48个高低beta交错的直线节。一期建设14条光束线站提供用户使用，2024年初陆续开始带光调试，2025年将试运行。HEPS建筑今年交付使用，全面进入设备安装阶段。

就算从上面来看，也至少 2025才能验证。而且，用这个光来做光刻，也是只是理论可以，所以现在还需要理论验证，理论验证离最终的商业化还有好多步。

所以还是谨慎乐观吧，而且即使能做出来，也不是这几年的事情。相比之下，有消息说28或14纳米的国产光刻机貌似已经快商业化了，如果是真的，这才是对 ASML 和美国最重大的打击，这个档次的芯片用量最大，性能、成本的平衡最好，如果能全国产，ASML 的市场要缩小一大半。