国产光刻工厂新思路？是真的吗？目前进展如何?

回答里都没有人说这个思路是什么东西，刚刚看了B站何教授的视频，我按我的理解大概说一下。

为了实现更高的芯片曝光分辨率，我们需要用更短波长的光来进行曝光。

这个技术就是得到更短波长的光的办法。

之前的办法是利用激光的原理来产生我们需要的光源。激光是因为原子受激辐射产生的 具有较好的单色性，就是发出的光的波长集中在我们想要的频率附近，而且有很好的相干性。激光发出的光子是由于原子的电子从高能级跃迁到低能级产生的，能级差越大，产生的波长就越短。不同原子有不同的能级结构，能级是分立的，而且跃迁还受禁戒规则的限制，所以要制造出我们想要的波长的紫外线激光器不是一件容易的事情。这是串通方案。

而清华大学的方案是利用电子加速运动产生的辐射。根据电动力学，带电粒子在进行加速运动的时候会产生辐射，辐射也有不错的单向性和单色性，由于这种辐射由运动的加速度和速度决定，所以可以连续调控，在速度很高时，圆周运动的带电粒子的辐射集中在粒子运动方向附近。加速器就会有大量做高速圆周运动的带电粒子，利用这个原理产生需要的光源。

至于这个方案和传统方案比靠不靠谱，成本怎么样，能不能落地，有没有优势，希望有专业人员补充。感兴趣的人也可以自己找找ssmb方案的论文和实验都有什么。不过我能确定的是我这个回答应该比目前这个问题下各种不恰当的比喻和赢学家的回答要靠谱。