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国产光刻工厂新思路?是真的吗?目前进展如何?

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抖音门槛太低,属实解释不清了,一群犟种,几nm工艺说的是啥都分不清,我相信知乎还是有大佬的,还是有门槛的。欢迎各个领域一起讨论互相学习,不接受犟种。中间废话太多可以直接看最后一段

清华搞的这个加速器(光学领域不太了解)假设它可以产生满足EUV光刻机需要的光源,而且其余透镜组 机械臂 涂胶机台等均已经国产化,那就按他说的,在一二百米周长的圆圈上分离出合适光源,那一个圆上不同的位置,光源也不一样能量波长嘛的,就按最好的情况,A点分离出13nm光源,用作EUV;B点分离出几百nm光源用作DUV/I Line,那这一个圈最多六台光刻机。工艺的一步photo解决了!(可喜可贺有了突破),后面的制程呢,蚀刻用什么设备?锛凿斧锯吗?北方华创好像还不支持先进制程的设备吧。假设设备问题都解决了,可以盖fab了,那问题来了,fab肯定要围绕这个圈去盖,5nm了,洁净室等级肯定不能低了,其他的机台怎么摆放?需要以加速器为中心去盖fab,假设十几二十个加速器放在一块盖成一个fab,四五十台光刻机,满载时每月10w+片,看上去很成功,但是单独那个圆圈占地大概需要96亩地,再算上其他配套的机台呢?再算上工程师办公区呢?土地问题解决了,那每月的用电量呢?需要的工人呢?假设这都不是问题,工艺中是有Qtime的,不同的layer需要的光刻机器不一样,这么大的面积,时间怎么卡控?引入智能系统大数据计算分析,天车不间断运行保住了时间,那么我们的芯片就可以流片了,国产EUV光刻机正式投入量产 。那我们来算一下,从那个圈的蓝图开始,到建成调试出合适的光源需要几年,fab搭建到环境合适需要几年?工人从第一片wafer下线到能够量产需要多久?量产到良率达标需要多久?一切都做好了,某些大厂1nm估计都成熟制程了。。。

总结下,实验室鼓捣鼓捣可以,扯扯淡还是好的,实际搞起来难度很大,不能有一个光源方案就觉得万事大吉了。工业制造业道阻且长,允许弯道超车,也别忘了理论结合实际,也希望有一天五星红旗会盖过星条旗,努力为半导体事业添砖加瓦

发布于 2023-09-16 02:54・IP 属地上海
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