3nm就是7nm+++++，或者说真正的3nm应该是INTEL的7nm；摩尔定律已经到顶，也就这帮人在玩文字游戏罢了。EUV带来的提升其实也很有限，毕竟已经到物理极限了。

前几天的新闻是日本和IBM联合研发2nm，结果相对于7nm，性能提升45%，功耗降低70%。。。。这种提升实在是很有限，可能省电是最大好处。。。

要知道，折腾到现在台积电3nm的良率都很不好看。。。当然，三星那边就更糟糕了。

文章里的193波段光刻机没说明制程，是因为193nm波段通吃7-28nm；

。。。这个新闻如果结合明年华为恢复麒麟芯片来看，或许已经解决了7nm的芯片的量产了吧，哪怕良率等还需要时间，设备的量产也需要时间。

虽然很不可思议，但这是唯一的解释。

。。。当然，话不能说满，毕竟3年前就开始说“明年量产28nm”了。结果28nm还没出现，居然直接7nm。。。实在是有点玄幻。

但无论如何，真正能量产7nm，哪怕是DUV，很多问题都能解决了。

这么说吧，中国完成7nm后，可以堂而皇之的制裁高通和苹果了。

是的，大不了中国集体倒退用麒麟810或者990的手机，但你美国再也不能以此来要挟中国。

如果再结合美国的几个半导体大佬联手给白宫施压的新闻。。。或许美国高层也担心真的量产了7nm，中国自身半导体产业链完善能独立发展是一个问题，而美国半导体消费端失去一大块的后果是另外一个问题。

要知道中国可是半导体的消费大国，先不说代工的问题。其他国家的消费者可一时半会无法弥补中国的消费者，哪怕缺少20%都会反映到整体的成本上。

总之如果是真的，那中国总算有了一把刀了，可能不如美国的锋利，但总算有了。

那么对砍就不怕了。

太振奋人心了！国产首台28纳米侵润式光刻机SSA／800-10W年底将交付市场。

继美国荷兰之后，日本于7月23日正式加入合围，力图封杀中国的半导体产业。上海微电子果然不负众望，将首台28纳米光刻机于今年交付中芯国际。

业内人士认为，中国半导体设备已经迈出第一步，实现了0到1的突破，下面要做的就是要解决稳定性、可靠性问题。

面对美国率众夹杀，从2020年到2023年，中国本土半导体销售额从9.9亿美元增加到33亿美元，国产市占率从7％上升到11％。

ASML认为，如果荷兰完全不卖任何光刻机给中国，那么中国可在5年内在DUV光刻机上追上ASML，这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备。

华为在去年已经公布＂反射镜、刻装置及控制方法＂（CN115343915A）的新专利，这显示中国在EUⅤ光刻机核心技术上的新突破。华中科技大学研制的OPC系统，哈工大研制的镭射干涉系统，也各有突破。中国继28纳米推入市场后，也加速在14纳米、7纳米甚至更高阶的光刻机推进研发工作。

面对美日荷对中国半导体的围堵，中国宣布自8月1日起对镓锗两种金属实施出口管制，美日荷将首当其冲。自美国建国以来，世界上还没有任何国家对美国实施出口禁令，美国镓储备为零，对中依赖达100％。

美国国防部长办公室前高级安全政策分析师Michael Maloof分析指出，完全取代从中国进口稀有金属的时间需要美国几代人的努力。他说，中国人基本上控制了美国的军事装备生产，这是一个国家安全问题。

美国做初一，中国做十五，中国反制美国的手段太多了。美国制裁中国企业达一千多家，而中国制裁美国企业仅三家。美国一心想杀死中国，但中国的反制也势必让美国很痛。

多年前，清华紫光曾发豪言买下台积电，多年后，清华紫光不仅毫无建树，而且还严重内斗，拖中国半导体后腿不说，还日渐成为一个包袱。相反，美国倾国力打压华为，可华为打不死，反而逆势而起，可见中国发展半导体用错人误国，用对人救国。