剛剛才想到這篇一直沒寫，因為台灣這邊都習慣叫曝光機(大陸叫光刻機)，我下面文章就用曝光機來稱呼
大陸的曝光機技術就注意長江存儲和長鑫存儲兩間公司的動態就好
為什麼要注意這兩間公司？
1.NAND是現在除了機械式硬碟外，儲存裝置的基礎元件
NAND是最不需要追趕製程微縮的，相對DRAM他的曝光機需求比較沒那麼嚴格，長江現行製程也只有到28nm，只有蝕刻機比較重要
2.DRAM是幾乎所有電子設備都會用到的重要零組件
可以說是電子產品的重要「原料」之一，只要長鑫能穩定生產，現在國產替代風潮下，他就一定能存活，但DRAM為了追求高速，製程上會一直慢慢微縮
基於第一點，我們只需要注意，長江存儲他的第二廠房進度就可以推測出國產設備己經進展到什麼程度了，因為長江存儲己經上了美國清單，他理論上己經不可能再獲得國外設備了，他只能採購國產設備
基於第二點，只要需要注意長鑫他的DRAM製程是不是己經推進到18nm以下製程，因為美國限制的是18nm，賣給長鑫的設備被限制在18nm以上製程，如果長鑫推進到18nm以下，表示他的生產設備都己經國產化了，你美國怎麼制裁都沒用了
現在看下面這個今年一月底的新聞
很明顯長鑫和長江都有擴產計畫，但長鑫還是在18nm上打擦邊球，可以預測國產設備製程上推進可能還沒到18nm以下，長江存儲就是上面所說的設備問題最大
到了今年四月，長存存儲的擴產計畫就比較明確了
己經明確要投入30億美元了，投這麼多資金除非對設備有絕對保證，不然美國如果可以切斷設備供應，就等於這錢丟水溝了，這邊可以明確的確定，長江二廠設備一定是國產設備才有可能敢進行這麼大規模投資
基於這兩則新聞就可以判斷
1.長江即然敢投資，表示國產曝光機在28nm製程上己經可行了
2.長鑫還只敢打擦邊球，表示國產曝光機在技術上還沒辦法推進到18nm以下製程
有人會提華為的7nm晶片，這部份我認為很有可能是非美技術的設備生產的，ASML在前幾年大陸的半導設備展覽會上，就有提到可以供應非美技術的設備，但沒說到詳細資料，但我猜測可能從這裡做為突破口進行的機會最大，雖然不是國產設備，但這也有很大的意義，就是有一個對照組可以對照了，未來國產設備就可以一個一個慢慢替換產線上的進口設備
例如從A->B->C，這三步，要把B替換成D，至少D出去的東西要和B一樣，這就是非美技術產線的重要意義，有可以穩定運作參考的對像，研發速度就會快非常多