如何看待中国的半导体工艺制程被卡在7nm，如何才能突破？

现在的7nm应该是中芯国际的N+2工艺，这是基于阿斯麦DUV光刻机做到。

不过继续挖掘下去的话，我认为中芯国际是可以做到5nm的，5nm是DUV光刻机的极限。

再下去就必须用EUV光刻机了。

要想突破到3nm，就只能靠上海微电子研发的EUV光刻机了，这是唯一的出路。

实际上7nm已经是非常高的水平了，目前全世界生产7nm芯片的工厂，只有台积电，三星和英特尔。

中国已经是妥妥的第二梯队了。