我国光刻机发展怎么样了？

难道各位没有发现，现在已经公开、半公开和匿名回答的消息都已经指向了一个事实：

那就是光刻机其实已经搞出来了，并且通过了产线验证，只是还并没有量产。

已经公开的消息：

1. 去年底公开的哈工大搞的激光干涉仪
2. 见下图，注意字眼：国产14nm工艺平台

半公开或者旁敲侧击的消息：

苗圩介绍中国集成电路发展现状的时候说到今年要大力扩产28nm，如果只能靠找ASML买，能有底气说出“大力扩产”？

特别是公开的哈工大高精度激光干涉仪的获奖消息，说明这个东西早就搞出来了，只是一直在产线做验证。既然公开颁奖，说明产线验证已经是OK的了

一些不靠谱的猜测：

应该是ArF的国产DUV光刻机，采用浸没式一次曝光可以做到28nm，二次曝光可以做到14nm。至于多次曝光做到7nm应该还没有跑通，良率还没爬上去，但也就是这一两年。